dettagli dei prodotti

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Condensatori MOS
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Condensatore ultra miniato a bordo a una sola parte per onde mm

Condensatore ultra miniato a bordo a una sola parte per onde mm

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC331S15V160
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shaanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015
Capacità:
330pF±10%
Tensione nominale:
25 V CC
Architettura di design:
Con bordo su un solo lato (con bordo superiore, completamente placcato in basso)
Metallizzazione superiore:
TiW-Au (≥4,0 µm Au)
Fattore di dissipazione:
≤2,5% a 1kHz, 1Vrms
Resistenza di isolamento:
≥10⁴ MΩ alla tensione nominale
Distanza dai fili:
Legame del filo d'oro ≥25 µm dal bordo dell'elettrodo
Processo adesivo:
Epossidico conduttivo H20E (polimerizzazione: 120°C / 30 min)
Evidenziare:

Capacitore a legame di filo 330 pF

,

Condensatore SLC ultra-miniato

,

Condensatore a bordo unilaterale 330 pF

Descrizione di prodotto

HACC331S15V160 Condensatore Ceramico Monostrato (SLC) Bordato Monofacciale 330pF 25V 15mil Ultra-Miniaturizzato Ottimizzato per mmWave

Il HACC331S15V160 è un condensatore ceramico monostrato (SLC) ultra-miniaturizzato ad alta affidabilità monofacciale bordato a strato singolo (SLC) progettato per blocco DC ultra-banda larga, accoppiamento RF e filtraggio di bypass a microonde nei microcircuiti ibridi più compatti. Offrendo 330 pF ±10% di capacità con una tensione nominale continua elevata di 25 V DC, questo dispositivo è alloggiato in un ingombro incredibilmente compatto di 15 mil × 15 mil (0,38 mm × 0,38 mm) con un'altezza di profilo ultra-bassa di 0,15 mm (6 mil). Progettato per un funzionamento affidabile da 0,1 GHz a 35,0 GHz nelle bande a microonde UHF, L, S, C, X, Ku, K e Ka, l'HACC331S15V160 è ottimizzato per il disaccoppiamento di amplificatori di potenza GaN, moduli T/R a phased array, blocchi DC per transceiver in fibra ottica e convertitori up/down per comunicazioni satellitari dove l'affidabilità superiore del legame a filo su die ultra-miniaturizzati è non negoziabile.

Fabbricato con dielettrico ceramico ultra-stabile di Classe I COG/NPO (C0G/NP0), questo condensatore mantiene una variazione di capacità entro ±0,3% nell'intero intervallo di temperatura da -55°C a +125°C. L'architettura monofacciale bordata presenta un margine ceramico isolante pulito attorno all'elettrodo d'oro superiore che funge da diga fisica — impedendo all'epossidico conduttivo d'argento di risalire o alla saldatura di fuoriuscire, causando cortocircuiti al contatto superiore durante l'attacco del die automatizzato. L'elettrodo superiore utilizza una metallizzazione TiW-Au ultra-spessa con uno strato d'oro minimo di 4,0 μm, fornendo un eccezionale buffer meccanico per legami a filo d'oro termosonici e legami a nastro pesanti. L'elettrodo inferiore impiega uno stack TiW-Pt-Au in cui lo strato barriera di platino (Pt) impedisce il recupero dell'oro e la formazione di intermetallici durante la saldatura eutettica AuSn ad alta temperatura o la polimerizzazione dell'epossidico d'argento.

Principali vantaggi prestazionali

Legabilità superiore del filo — Elettrodo superiore in oro ultra-spesso da 4,0 μm

Su un condensatore chip da 15 mil (0,38 mm), l'area del pad di legame del filo è tipicamente solo 80 μm × 80 μm. Con una metallizzazione standard flash oro <1,0-2,5 μm, il legame a cuneo o a sfera termosonico può trasmettere energia ultrasonica attraverso il sottile strato d'oro, fratturando il dielettrico ceramico sottostante — una modalità di guasto latente nota come "bonding-through" o "cratering" che spesso sfugge al test elettrico ma si manifesta come un circuito aperto dopo cicli termici. L'HACC331S15V160 elimina questa modalità di guasto con uno strato di oro puro (Au) sputtering di almeno 4,0 μm di spessore

  • su una base di adesione TiW. I vantaggi ingegneristici includono:Assorbimento di energia meccanica:
  • Lo strato d'oro duttile da 4,0 μm funge da ammortizzatore, distribuendo l'energia di legame ultrasonica (40-100 mW) e la forza di legame (15-35 gf) sull'intera area del pad senza trasmettere stress dannosi al substrato ceramico.Ampia finestra di processo:
  • Compatibile con legame a cuneo (forza 20-35 gf, ultrasuoni 60-100 mW, stadio 120-150°C) e legame a sfera (15-30 gf, 40-80 mW, stadio 150°C) utilizzando filo d'oro ad alta purezza da 18-25 μm (0,7-1,0 mil) — accomodando la variabilità tra diverse piattaforme di legame (Kulicke & Soffa, F&K Delvotec, TPT, Hybond).Resistenza al pull del legame >3,0 gf:
  • Supera costantemente i requisiti di resistenza al pull MIL-STD-883 Metodo 2011.7 per qualifica del lotto di wafer. Valori tipici vanno da 4,5-7,0 gf, fornendo un margine >2× rispetto al minimo specificato.Compatibile con legame a nastro d'oro: Lo spesso strato Au supporta il legame a nastro d'oro da 25 μm × 250 μm (1 mil × 10 mil) per applicazioni di bypass RF ad alta corrente che richiedono
  • induttanza di interconnessione <0,1 nH.Nessun difetto di bonding-through:

Testato al 100% al pull del filo per lotto di wafer su die campione dagli angoli e dal centro. Zero difetti di bonding-through su >10.000 legami di qualifica.

Ultra-Miniaturizzazione e Basso Profilo — 75% Più Piccolo degli SLC da 30 milA 0,38 × 0,38 × 0,15 mm (15 × 15 × 6 mil), l'HACC331S15V160 raggiunge la stessa capacità di 330 pF di un SLC standard da 30 mil in un quarto dell'area della scheda. Questo miglioramento della densità 4× è reso possibile da una formulazione ceramica proprietaria ultra-sottile ad alto K COG/NPO

  • che massimizza la capacità per unità di area mantenendo la stabilità di temperatura di Classe I e la tensione nominale di 25 V.Profilo di 0,15 mm (6 mil): Si posiziona completamente a filo all'interno di cavità RF microscopiche e coperchi di moduli ermetici, minimizzando l'induttanza di loop parassita nelle interconnessioni a filo.
  • Densità di canale 4×: Sostituire quattro SLC da 30 mil (0,76 mm) con quattro condensatori HACC331S15V160 da 15 mil, liberando il 75% dell'area del carrier per ulteriori die MMIC, circuiti di bias o strutture di gestione termica nei moduli T/R a phased array.
  • Pronto per l'automazione pick-and-place: Dimensioni standard del die con tolleranza ±25 μm garantiscono un'integrazione senza interruzioni con apparecchiature di attacco automatico ad alta velocità (Datacon 2200 evo, Finetech FINEPLACER, serie Tresky T-3000). Il design bordato monofacciale richiede solo il riconoscimento ottico dal lato superiore — nessuna inversione di orientamento necessaria per applicazioni montate sul fondo.
  • Dissipazione termica: Nonostante l'ingombro ultra-compatto, l'elettrodo inferiore completamente metallizzato (TiW-Pt-Au, ≥2,5 μm Au) fornisce un'area di contatto termico massima al carrier del substrato, conducendo efficientemente il calore lontano dal dielettrico durante il funzionamento ad alta potenza RF.

Eccellente stabilità termica — Dielettrico COG/NPO di Classe I

L'HACC331S15V160 è fabbricato con dielettrico ceramico di Classe I COG/NPO (C0G/NP0) — lo standard d'oro per i condensatori RF stabili in temperatura. Il Coefficiente di Temperatura della Capacità (TCC) è specificato come 0 ±30 ppm/°C da -55°C a +125°C, il che significa che la capacità varia meno di ±0,3% nell'intero intervallo di temperatura. Al contrario, i dielettrici di Classe II X7R presentano una variazione di ±15% nello stesso intervallo — una differenza di 50×.

  • Coefficiente di tensione DC nullo: A differenza dei dielettrici X7R e X5R che perdono il 30-80% della loro capacità nominale sotto polarizzazione DC, il COG/NPO presenta un coefficiente di tensione trascurabile (<10 ppm/V). Il valore di 330 pF è stabile da 0 V a tutta la tensione nominale di 25 V — critico per il disaccoppiamento della rete di polarizzazione dove lo spostamento della capacità detunerebbe la rete di adattamento.
  • Nessun effetto di invecchiamento: I dielettrici di Classe II presentano un decadimento logaritmico della capacità del 3-5% per decade-ora dovuto al rilassamento dei domini ferroelettrici. Il COG/NPO è paraelettrico — non ha domini ferroelettrici — e quindi non invecchia. La capacità misurata a t=0 e t=10 anni sarà identica entro l'incertezza di misura.
  • Basso assorbimento dielettrico: La natura paraelettrica del COG/NPO produce anche un assorbimento dielettrico estremamente basso (<0,1%) — critico per circuiti sample-and-hold e filtri analogici di precisione dove gli effetti di memoria dielettrica introducono errori di tensione.
  • Parametri S prevedibili vs. temperatura: Poiché la capacità è stabile, S21 (perdita di inserzione) e S11 (perdita di ritorno) rimangono costanti dall'avvio a freddo (-55°C) allo stato stazionario a piena potenza (+125°C), eliminando la necessità di reti di compensazione della temperatura nella catena RF.

Scheda tecnica completa dei parametri

Categoria Specifiche Nome Parametro Tecnico Valori Garantiti Condizioni di Test / Misura
Specifiche Elettriche Capacità Nominale 330 pF ±10% 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C, polarizzazione DC 0 V
Specifiche Elettriche Tensione di Lavoro Nominale (DC) 25 V Massima tensione continua, da -55°C a +125°C
Specifiche Elettriche Tensione di Tenuta Dielettrica (DWV) 62,5 V (250% nominale) 5 sec di permanenza, test di produzione al 100%
Specifiche Elettriche Fattore di Dissipazione (DF) ≤2,5% 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C
Specifiche Elettriche Resistenza di Isolamento (IR) ≥104 Alla tensione DC nominale, 25°C
Specifiche Elettriche Banda di Frequenza Raccomandata 0,1 - 35,0 GHz Blocco DC a banda larga e bypass RF
Specifiche Elettriche Frequenza di Auto-Risonanza (SRF) >20 GHz Montato su allumina da 10 mil, con legame a filo
Specifiche Elettriche Induttanza Serie Equivalente (ESL) <40 pH Percorso di corrente coassiale a strato singolo
Temperatura Intervallo di Temperatura Operativa -55°C a +125°C Grado industriale, conformità parametrica completa
Temperatura Coefficiente di Temperatura (TCC) 0 ±30 ppm/°C -55°C a +125°C, COG/NPO Classe I
Geometria Fisica Dimensioni Esterne 0,38 × 0,38 × 0,15 mm 15 × 15 × 6 mil, tolleranza ±25 μm
Architettura di Progettazione Stile Condensatore Monofacciale Bordato Margine ceramico isolante sulla superficie superiore
Stack Metallizzazione Metallizzazione Elettrodo Superiore TiW-Au (≥4,0 μm Au) Buffer di legame a filo ultra-spesso, sputtering
Stack Metallizzazione Metallizzazione Elettrodo Inferiore TiW-Pt-Au (≥2,5 μm Au) Barriera di diffusione Pt, sputtering
Processi di Assemblaggio Adesione di Montaggio Epossidico Conduttivo / Eutettico AuSn Epotek H20E (120°C/30min) o AuSn (300-320°C)
Processi di Assemblaggio Connessione Interconnessione Filo d'oro / Legame a nastro Legame termosonico, filo Au da 18-25 μm
Affidabilità e Qualità Temperatura e UR di Stoccaggio 20-25°C, 40%-60% UR Armadio a azoto, ambiente di camera bianca
Affidabilità e Qualità Durata di Conservazione Garantita 1 Anno In condizioni di stoccaggio ottimali

Matrice Tecnica Comparativa — SLC da 15 mil vs. Tecnologie Alternative

Fattore di Confronto Ingegneristico

HACC331S15V160

 (SLC COG da 15 mil)

SLC COG da 30 mil MLCC COG 0402 Condensatore MIM Thin-Film Si
Ingombro (L × W) 0,38 × 0,30 mm 0,76 × 0,76 mm (4× più grande) 1,0 × 0,5 mm (3,5× più grande) 0,50 × 0,50 mm
Altezza 0,15 mm 0,15 mm 0,50 mm (3,3× più alto) 0,25 mm
Capacità 330 pF / 25 V 330 pF / 50 V 330 pF / 50 V 330 pF / 20 V
ESL (Tipica) <40 pH <50 pH 300-500 pH <50 pH
Frequenza di Auto-Risonanza >20 GHz >15 GHz 1-3 GHz >30 GHz
TCC 0 ±30 ppm/°C 0 ±30 ppm/°C 0 ±30 ppm/°C <50 ppm/°C
Coefficiente di Polarizzazione DC <10 ppm/V (trascurabile) <10 ppm/V <10 ppm/V <50 ppm/V
Protezione da fuoriuscita di epossidico Eccellente — elettrodo superiore bordato Moderata — dipende dal design N/A (saldato SMD) Nessuna (senza bordi)
Spessore Au Legame a Filo 4,0 μm (ultra-spesso) 2,5 μm (standard) N/A 2,5 μm
Livello di Integrazione Livello Die (legame a filo) Livello Die Livello Scheda (SMD) Livello Die
Migliore Applicazione Ibrido mmWave ad altissima densità Moduli ibridi ad alta tensione RF consumer a livello PCB Integrazione RFIC in silicio

Ingegneria dello Stack di Metallizzazione Thin-Film

Per garantire la massima affidabilità del legame a filo sull'elettrodo superiore e una resistenza assoluta alla fusione della saldatura sull'elettrodo inferiore, l'HACC331S15V160 utilizza un sistema di metallizzazione thin-film asimmetrico, ad alta affidabilità, sputtering sotto vuoto:

Lato Metallizzazione Strato Metallico Materiale Sputterato Spessore Standard Strato Funzione Metallurgica e Valore Ingegneristico
Contatto Superiore Adesione e Barriera TiW (Titanio-Tungsteno) Base Sputterata Fornisce un legame chimico altamente stabile e bloccante l'ossigeno al substrato ceramico COG/NPO; previene la delaminazione Au-ceramica sotto stress da cicli termici (-55°C a +125°C).
Finitura Legame Au (Oro) ≥4,0 μm Strato d'oro duttile ultra-spesso che assorbe meccanicamente l'energia di legame a filo ultrasonico (40-100 mW) e la forza di legame (15-35 gf), eliminando completamente le modalità di guasto bonding-through/cratering. 2-4× più spesso dell'oro flash standard industriale 1,0-2,5 μm.
Contatto Inferiore Adesione e Barriera TiW (Titanio-Tungsteno) Base Sputterata Legame di base simmetrico alla superficie ceramica inferiore; chimica TiW identica al contatto superiore per semplicità di processo.
Barriera di Diffusione Pt (Platino) Barriera Sputterata Strato barriera di platino (Pt) ad alta densità che è completamente insolubile nella saldatura oro-stagno fusa (AuSn). Durante l'attacco del die eutettico a 300-320°C, gli elettrodi Au standard senza uno strato barriera di Pt possono essere completamente dissolti ("recuperati") dalla saldatura in pochi secondi, esponendo lo strato di adesione TiW che si ossida immediatamente. La barriera Pt elimina completamente questo meccanismo di guasto.
Finitura Legame Au (Oro) ≥2,5 μm Finitura inferiore saldabile e compatibile con epossidico. Compatibile con epossidico conduttivo d'argento (Epotek H20E), preforme eutettiche AuSn (80/20) e attacco die Ag sinterizzato.

Guida all'ingegneria dei parametri S e all'assemblaggio sub-millimetrico

Per massimizzare l'efficienza del blocco DC a banda larga e del bypass RF, prevenendo al contempo guasti meccanici o elettrici durante l'assemblaggio di microcircuiti ibridi, gli ingegneri di progettazione e processo a microonde devono seguire queste precise istruzioni tecniche:

SOP di Legame con Epossidico d'Argento Conduttivo Epotek H20E

  • Selezione Adesivo: Utilizzare epossidico d'argento conduttivo ad alta affidabilità e a bassa emissione di gas — Epoxy Technology H20E è la raccomandazione standard del settore, qualificato sulle principali linee di assemblaggio per difesa e aerospaziale.
  • Linee Guida Erogazione: Applicare un punto microscopico e controllato di epossidico utilizzando un micro-erogatore pneumatico o a vite (Nordson EFD, Musashi Engineering). Volume tipico di erogazione: 2-5 nL per un die da 15 mil. Grazie al design bordato monofacciale, il margine ceramico sull'elettrodo superiore contiene fisicamente qualsiasi eccesso di epossidico, prevenendo cortocircuiti da fuoriuscita al pad d'oro superiore.
  • Forza Pick-and-Place: Controllare la forza della pinza a <50 gf per prevenire micro-fratture del substrato ceramico sottile da 0,15 mm. Utilizzare una punta della pinza conforme (silicone o elastomero antistatico) piuttosto che una punta metallica dura.
  • Profilo di Cura Termica: Curare a 120°C per 30 minuti (o 150°C per 15 minuti come opzione di cura rapida alternativa). Assicurarsi che la velocità di rampa della temperatura sia controllata a <10°C/sec per evitare shock termici. Lasciare raffreddare naturalmente a <50°C prima della manipolazione.

Vincoli di Legame a Filo e Nastro d'Oro

  • Metodo di Legame: Compatibile con legame a filo d'oro termosonico (ball-stitch o wedge-wedge) e legame a nastro d'oro. Filo raccomandato: filo d'oro ad alta purezza (99,99%) da 0,7 mil a 1,0 mil (18-25 μm).
  • Distanza di Sicurezza Legame: La cuneo di legame o la capillare a sfera devono atterrare sul pad d'oro superiore almeno 25 μm dal bordo del pad. Il legame entro 25 μm dal bordo ceramico crea uno stress di taglio meccanico localizzato all'interfaccia Au-ceramica, rischiando il distacco del film d'oro, micro-fratture del dielettrico o guasti elettrici latenti.
  • Parametri Ultrasuoni e Forza: Legame a cuneo: forza di legame 20-35 gf, potenza ultrasonica 60-100 mW, tempo di legame 20-50 ms. Legame a sfera: forza di legame 15-30 gf, potenza ultrasonica 40-80 mW, tempo di legame 10-30 ms. Temperatura dello stadio: 120-150°C per entrambi i metodi.
  • Ispezione Legame a Filo: Ispezionare visivamente a ingrandimento 50×. Rifiutare qualsiasi legame con deformazione del pad >25%, cratering visibile, spellatura dell'oro o posizionamento del legame <25 μm dal bordo ceramico.

Domande Frequenti

D1: Qual è il beneficio meccanico dell'elettrodo d'oro superiore spesso 4,0 μm rispetto agli SLC standard con Au da 2,5 μm?

Sui condensatori chip ultra-miniaturizzati da 15 mil (0,38 mm), il pad di legame del filo è estremamente piccolo — tipicamente 80 μm × 80 μm — il che concentra l'energia di legame ultrasonica in un'area molto piccola. Con una metallizzazione standard in oro da 1,0-2,5 μm, l'impulso ultrasonico può trasmettere attraverso il sottile strato d'oro e fratturare il dielettrico ceramico sottostante, creando un difetto latente che supera il test elettrico ma fallisce dopo cicli termici (una modalità di guasto nota come "bonding-through" o "sub-surface cratering"). Lo strato d'oro minimo di 4,0 μm dell'HACC331S15V160 fornisce un buffering meccanico 1,6-4× più spesso rispetto agli SLC standard del settore, assorbendo e distribuendo l'energia ultrasonica sull'intero volume d'oro anziché trasmetterla all'interfaccia ceramica fragile. Il risultato è una finestra di processo di legame ampia e a basso stress che fornisce una resistenza al pull costante >3,0 gf in un assemblaggio automatizzato ad alto volume.

D2: Perché scegliere il dielettrico COG/NPO rispetto all'X7R per un condensatore di bypass RF?

Tre fattori critici di prestazione RF differenziano il COG/NPO dall'X7R: (1) Stabilità di temperatura: La variazione del COG/NPO è ±0,3% da -55°C a +125°C contro ±15% per l'X7R — un miglioramento di 50×. In un bias tee o una rete di adattamento, uno spostamento di capacità del 15% detunerebbe il circuito di centinaia di MHz alla banda Ku. (2) Stabilità di polarizzazione DC: L'X7R può perdere il 30-80% della sua capacità nominale sotto polarizzazione DC perché il suo dielettrico di titanato di bario è ferroelettrico. Il COG/NPO è paraelettrico — la capacità è stabile entro <10 ppmV from 0 to rated voltage. (3) Invecchiamento: La capacità X7R decade di circa il 3-5% per decade-ora a causa del rilassamento dei domini ferroelettrici. Il COG/NPO non invecchia — un condensatore misurato oggi avrà la stessa capacità tra 10 anni. Per sistemi di difesa e aerospaziali con vite di servizio pluridecennali, questo elimina un meccanismo critico di deriva a lungo termine.

D3: Come fa la barriera di Pt (Platino) sull'elettrodo inferiore a prevenire il recupero della saldatura?

Durante l'attacco del die eutettico AuSn (80/20) a 300-320°C, la saldatura oro-stagno fusa agisce come un solvente d'oro estremamente aggressivo. Un elettrodo Au standard (<2,5 μm) senza uno strato barriera può essere completamente dissolto dalla saldatura in 3-5 secondi alla temperatura di riflusso — esponendo lo strato di adesione TiW sottostante. Il TiW si ossida istantaneamente all'esposizione all'aria o a tracce di ossigeno, formando uno strato di ossido di tungsteno ad alta resistenza che compromette sia l'adesione meccanica che la conducibilità elettrica. L'HACC331S15V160 ha un elettrodo inferiore che include uno strato barriera di platino (Pt) sputtering tra la base TiW e la finitura Au. Il platino è completamente insolubile nella saldatura AuSn alle temperature di riflusso eutettico — non si dissolve né forma intermetallici. Lo strato di Pt funge da blocco di diffusione impenetrabile, preservando l'interfaccia di adesione TiW e garantendo una connessione di terra affidabile e a bassa resistenza (<10 mΩ) attraverso molteplici cicli di riflusso, escursioni termiche e l'intera vita operativa.

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