| Marchio: | Hoan |
| Numero di modello: | HACC331S15V160 |
| MOQ: | 10 pezzi |
| Termini di pagamento: | L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union |
Il HACC331S15V160 è un condensatore ceramico monostrato (SLC) ultra-miniaturizzato ad alta affidabilità monofacciale bordato a strato singolo (SLC) progettato per blocco DC ultra-banda larga, accoppiamento RF e filtraggio di bypass a microonde nei microcircuiti ibridi più compatti. Offrendo 330 pF ±10% di capacità con una tensione nominale continua elevata di 25 V DC, questo dispositivo è alloggiato in un ingombro incredibilmente compatto di 15 mil × 15 mil (0,38 mm × 0,38 mm) con un'altezza di profilo ultra-bassa di 0,15 mm (6 mil). Progettato per un funzionamento affidabile da 0,1 GHz a 35,0 GHz nelle bande a microonde UHF, L, S, C, X, Ku, K e Ka, l'HACC331S15V160 è ottimizzato per il disaccoppiamento di amplificatori di potenza GaN, moduli T/R a phased array, blocchi DC per transceiver in fibra ottica e convertitori up/down per comunicazioni satellitari dove l'affidabilità superiore del legame a filo su die ultra-miniaturizzati è non negoziabile.
Fabbricato con dielettrico ceramico ultra-stabile di Classe I COG/NPO (C0G/NP0), questo condensatore mantiene una variazione di capacità entro ±0,3% nell'intero intervallo di temperatura da -55°C a +125°C. L'architettura monofacciale bordata presenta un margine ceramico isolante pulito attorno all'elettrodo d'oro superiore che funge da diga fisica — impedendo all'epossidico conduttivo d'argento di risalire o alla saldatura di fuoriuscire, causando cortocircuiti al contatto superiore durante l'attacco del die automatizzato. L'elettrodo superiore utilizza una metallizzazione TiW-Au ultra-spessa con uno strato d'oro minimo di 4,0 μm, fornendo un eccezionale buffer meccanico per legami a filo d'oro termosonici e legami a nastro pesanti. L'elettrodo inferiore impiega uno stack TiW-Pt-Au in cui lo strato barriera di platino (Pt) impedisce il recupero dell'oro e la formazione di intermetallici durante la saldatura eutettica AuSn ad alta temperatura o la polimerizzazione dell'epossidico d'argento.
Su un condensatore chip da 15 mil (0,38 mm), l'area del pad di legame del filo è tipicamente solo 80 μm × 80 μm. Con una metallizzazione standard flash oro <1,0-2,5 μm, il legame a cuneo o a sfera termosonico può trasmettere energia ultrasonica attraverso il sottile strato d'oro, fratturando il dielettrico ceramico sottostante — una modalità di guasto latente nota come "bonding-through" o "cratering" che spesso sfugge al test elettrico ma si manifesta come un circuito aperto dopo cicli termici. L'HACC331S15V160 elimina questa modalità di guasto con uno strato di oro puro (Au) sputtering di almeno 4,0 μm di spessore
Ultra-Miniaturizzazione e Basso Profilo — 75% Più Piccolo degli SLC da 30 milA 0,38 × 0,38 × 0,15 mm (15 × 15 × 6 mil), l'HACC331S15V160 raggiunge la stessa capacità di 330 pF di un SLC standard da 30 mil in un quarto dell'area della scheda. Questo miglioramento della densità 4× è reso possibile da una formulazione ceramica proprietaria ultra-sottile ad alto K COG/NPO
L'HACC331S15V160 è fabbricato con dielettrico ceramico di Classe I COG/NPO (C0G/NP0) — lo standard d'oro per i condensatori RF stabili in temperatura. Il Coefficiente di Temperatura della Capacità (TCC) è specificato come 0 ±30 ppm/°C da -55°C a +125°C, il che significa che la capacità varia meno di ±0,3% nell'intero intervallo di temperatura. Al contrario, i dielettrici di Classe II X7R presentano una variazione di ±15% nello stesso intervallo — una differenza di 50×.
| Categoria Specifiche | Nome Parametro Tecnico | Valori Garantiti | Condizioni di Test / Misura |
|---|---|---|---|
| Specifiche Elettriche | Capacità Nominale | 330 pF ±10% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C, polarizzazione DC 0 V |
| Specifiche Elettriche | Tensione di Lavoro Nominale (DC) | 25 V | Massima tensione continua, da -55°C a +125°C |
| Specifiche Elettriche | Tensione di Tenuta Dielettrica (DWV) | 62,5 V (250% nominale) | 5 sec di permanenza, test di produzione al 100% |
| Specifiche Elettriche | Fattore di Dissipazione (DF) | ≤2,5% | 1 kHz, 1,0 Vrms, 25°C |
| Specifiche Elettriche | Resistenza di Isolamento (IR) | ≥104 MΩ | Alla tensione DC nominale, 25°C |
| Specifiche Elettriche | Banda di Frequenza Raccomandata | 0,1 - 35,0 GHz | Blocco DC a banda larga e bypass RF |
| Specifiche Elettriche | Frequenza di Auto-Risonanza (SRF) | >20 GHz | Montato su allumina da 10 mil, con legame a filo |
| Specifiche Elettriche | Induttanza Serie Equivalente (ESL) | <40 pH | Percorso di corrente coassiale a strato singolo |
| Temperatura | Intervallo di Temperatura Operativa | -55°C a +125°C | Grado industriale, conformità parametrica completa |
| Temperatura | Coefficiente di Temperatura (TCC) | 0 ±30 ppm/°C | -55°C a +125°C, COG/NPO Classe I |
| Geometria Fisica | Dimensioni Esterne | 0,38 × 0,38 × 0,15 mm | 15 × 15 × 6 mil, tolleranza ±25 μm |
| Architettura di Progettazione | Stile Condensatore | Monofacciale Bordato | Margine ceramico isolante sulla superficie superiore |
| Stack Metallizzazione | Metallizzazione Elettrodo Superiore | TiW-Au (≥4,0 μm Au) | Buffer di legame a filo ultra-spesso, sputtering |
| Stack Metallizzazione | Metallizzazione Elettrodo Inferiore | TiW-Pt-Au (≥2,5 μm Au) | Barriera di diffusione Pt, sputtering |
| Processi di Assemblaggio | Adesione di Montaggio | Epossidico Conduttivo / Eutettico AuSn | Epotek H20E (120°C/30min) o AuSn (300-320°C) |
| Processi di Assemblaggio | Connessione Interconnessione | Filo d'oro / Legame a nastro | Legame termosonico, filo Au da 18-25 μm |
| Affidabilità e Qualità | Temperatura e UR di Stoccaggio | 20-25°C, 40%-60% UR | Armadio a azoto, ambiente di camera bianca |
| Affidabilità e Qualità | Durata di Conservazione Garantita | 1 Anno | In condizioni di stoccaggio ottimali |
| Fattore di Confronto Ingegneristico |
HACC331S15V160 (SLC COG da 15 mil) |
SLC COG da 30 mil | MLCC COG 0402 | Condensatore MIM Thin-Film Si |
|---|---|---|---|---|
| Ingombro (L × W) | 0,38 × 0,30 mm | 0,76 × 0,76 mm (4× più grande) | 1,0 × 0,5 mm (3,5× più grande) | 0,50 × 0,50 mm |
| Altezza | 0,15 mm | 0,15 mm | 0,50 mm (3,3× più alto) | 0,25 mm |
| Capacità | 330 pF / 25 V | 330 pF / 50 V | 330 pF / 50 V | 330 pF / 20 V |
| ESL (Tipica) | <40 pH | <50 pH | 300-500 pH | <50 pH |
| Frequenza di Auto-Risonanza | >20 GHz | >15 GHz | 1-3 GHz | >30 GHz |
| TCC | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | 0 ±30 ppm/°C | <50 ppm/°C |
| Coefficiente di Polarizzazione DC | <10 ppm/V (trascurabile) | <10 ppm/V | <10 ppm/V | <50 ppm/V |
| Protezione da fuoriuscita di epossidico | Eccellente — elettrodo superiore bordato | Moderata — dipende dal design | N/A (saldato SMD) | Nessuna (senza bordi) |
| Spessore Au Legame a Filo | 4,0 μm (ultra-spesso) | 2,5 μm (standard) | N/A | 2,5 μm |
| Livello di Integrazione | Livello Die (legame a filo) | Livello Die | Livello Scheda (SMD) | Livello Die |
| Migliore Applicazione | Ibrido mmWave ad altissima densità | Moduli ibridi ad alta tensione | RF consumer a livello PCB | Integrazione RFIC in silicio |
Per garantire la massima affidabilità del legame a filo sull'elettrodo superiore e una resistenza assoluta alla fusione della saldatura sull'elettrodo inferiore, l'HACC331S15V160 utilizza un sistema di metallizzazione thin-film asimmetrico, ad alta affidabilità, sputtering sotto vuoto:
| Lato Metallizzazione | Strato Metallico | Materiale Sputterato | Spessore Standard Strato | Funzione Metallurgica e Valore Ingegneristico |
|---|---|---|---|---|
| Contatto Superiore | Adesione e Barriera | TiW (Titanio-Tungsteno) | Base Sputterata | Fornisce un legame chimico altamente stabile e bloccante l'ossigeno al substrato ceramico COG/NPO; previene la delaminazione Au-ceramica sotto stress da cicli termici (-55°C a +125°C). |
| Finitura Legame | Au (Oro) | ≥4,0 μm | Strato d'oro duttile ultra-spesso che assorbe meccanicamente l'energia di legame a filo ultrasonico (40-100 mW) e la forza di legame (15-35 gf), eliminando completamente le modalità di guasto bonding-through/cratering. 2-4× più spesso dell'oro flash standard industriale 1,0-2,5 μm. | |
| Contatto Inferiore | Adesione e Barriera | TiW (Titanio-Tungsteno) | Base Sputterata | Legame di base simmetrico alla superficie ceramica inferiore; chimica TiW identica al contatto superiore per semplicità di processo. |
| Barriera di Diffusione | Pt (Platino) | Barriera Sputterata | Strato barriera di platino (Pt) ad alta densità che è completamente insolubile nella saldatura oro-stagno fusa (AuSn). Durante l'attacco del die eutettico a 300-320°C, gli elettrodi Au standard senza uno strato barriera di Pt possono essere completamente dissolti ("recuperati") dalla saldatura in pochi secondi, esponendo lo strato di adesione TiW che si ossida immediatamente. La barriera Pt elimina completamente questo meccanismo di guasto. | |
| Finitura Legame | Au (Oro) | ≥2,5 μm | Finitura inferiore saldabile e compatibile con epossidico. Compatibile con epossidico conduttivo d'argento (Epotek H20E), preforme eutettiche AuSn (80/20) e attacco die Ag sinterizzato. |
Per massimizzare l'efficienza del blocco DC a banda larga e del bypass RF, prevenendo al contempo guasti meccanici o elettrici durante l'assemblaggio di microcircuiti ibridi, gli ingegneri di progettazione e processo a microonde devono seguire queste precise istruzioni tecniche:
Sui condensatori chip ultra-miniaturizzati da 15 mil (0,38 mm), il pad di legame del filo è estremamente piccolo — tipicamente 80 μm × 80 μm — il che concentra l'energia di legame ultrasonica in un'area molto piccola. Con una metallizzazione standard in oro da 1,0-2,5 μm, l'impulso ultrasonico può trasmettere attraverso il sottile strato d'oro e fratturare il dielettrico ceramico sottostante, creando un difetto latente che supera il test elettrico ma fallisce dopo cicli termici (una modalità di guasto nota come "bonding-through" o "sub-surface cratering"). Lo strato d'oro minimo di 4,0 μm dell'HACC331S15V160 fornisce un buffering meccanico 1,6-4× più spesso rispetto agli SLC standard del settore, assorbendo e distribuendo l'energia ultrasonica sull'intero volume d'oro anziché trasmetterla all'interfaccia ceramica fragile. Il risultato è una finestra di processo di legame ampia e a basso stress che fornisce una resistenza al pull costante >3,0 gf in un assemblaggio automatizzato ad alto volume.
Tre fattori critici di prestazione RF differenziano il COG/NPO dall'X7R: (1) Stabilità di temperatura: La variazione del COG/NPO è ±0,3% da -55°C a +125°C contro ±15% per l'X7R — un miglioramento di 50×. In un bias tee o una rete di adattamento, uno spostamento di capacità del 15% detunerebbe il circuito di centinaia di MHz alla banda Ku. (2) Stabilità di polarizzazione DC: L'X7R può perdere il 30-80% della sua capacità nominale sotto polarizzazione DC perché il suo dielettrico di titanato di bario è ferroelettrico. Il COG/NPO è paraelettrico — la capacità è stabile entro <10 ppmV from 0 to rated voltage. (3) Invecchiamento: La capacità X7R decade di circa il 3-5% per decade-ora a causa del rilassamento dei domini ferroelettrici. Il COG/NPO non invecchia — un condensatore misurato oggi avrà la stessa capacità tra 10 anni. Per sistemi di difesa e aerospaziali con vite di servizio pluridecennali, questo elimina un meccanismo critico di deriva a lungo termine.
Durante l'attacco del die eutettico AuSn (80/20) a 300-320°C, la saldatura oro-stagno fusa agisce come un solvente d'oro estremamente aggressivo. Un elettrodo Au standard (<2,5 μm) senza uno strato barriera può essere completamente dissolto dalla saldatura in 3-5 secondi alla temperatura di riflusso — esponendo lo strato di adesione TiW sottostante. Il TiW si ossida istantaneamente all'esposizione all'aria o a tracce di ossigeno, formando uno strato di ossido di tungsteno ad alta resistenza che compromette sia l'adesione meccanica che la conducibilità elettrica. L'HACC331S15V160 ha un elettrodo inferiore che include uno strato barriera di platino (Pt) sputtering tra la base TiW e la finitura Au. Il platino è completamente insolubile nella saldatura AuSn alle temperature di riflusso eutettico — non si dissolve né forma intermetallici. Lo strato di Pt funge da blocco di diffusione impenetrabile, preservando l'interfaccia di adesione TiW e garantendo una connessione di terra affidabile e a bassa resistenza (<10 mΩ) attraverso molteplici cicli di riflusso, escursioni termiche e l'intera vita operativa.