ตัวเก็บประจุ MOS หน่วยความจำไดอิเล็กทริกเป็นศูนย์ที่ทนทาน 1000pF 80V คุณสมบัติ CV พิเศษแบบอัลตร้าลีเนียร์ Paraelectric SiO2

HACC102S80V500 เครื่องประปา MOS ความจําแบบดียิเล็คทริกศูนย์: 1000pF 80V ด้วยลักษณะ C-V Ultra-Linear และ SiO Paraelectric₂ไดเอเลคทริก

รายการHACC102S80V500เป็นตัวประกอบ MOS แบบชั้นเดียว 1000pF ± 10% ที่มีค่าเฉพาะ 80V DC ผลิตจากซิลิคอนโซนลอย (> 1000Ω·cm) ด้วย SiO ปาราไฟฟ้าที่เติบโตทางอุณหภูมิ 300nm₂ไดเอเล็คทริก ขนาดชิป 0.75mm × 0.75mm × 0.15mm กับ TiW-Au ท็อปเมทัลเลชั่น (2.5μm Au ขั้นต่ํา) และ TiW-Pt-Au ด้านหลัง (1.0μm ขั้นต่ํา Au, ป้องกัน Pt)อุปกรณ์นี้ถูกออกแบบมาสําหรับการใช้งาน Analog และ RF ที่มีความแม่นยํา, ความไม่ตรงกันของความจุกับความกระชับกําลังและความเคลื่อนไหวของความจุในระยะยาวเป็นปัจจัยจํากัดการออกแบบ สามารถปรับแต่งได้อย่างเต็มที่: ความจุจาก 10pF ถึง 1000pF, ความจุจาก 6.3V ถึง 100V,จีโอเมทรีชิปตามสั่ง, และตัวเลือกการทําโลหะทางเลือกที่มีอยู่

1ความจําแบบดียิเลคทริกศูนย์ ผลกําไรแบบพาราไฟฟ้าของ SiO₂

ความจําแบบดียิเลคทริกเป็นข้อจํากัดพื้นฐานของดียิเลคทริกเซรามิกไฟฟ้าเหล็กที่ใช้ใน MLCCs ประเภทที่ II (X7R, X5R, Y5V) และตัวประกอบละอองบางหลายตัวในวัสดุไฟฟ้าเหล็ก เช่น แบเรียมไทแนต (BaTiO)₃), the spontaneous polarization of crystalline domains creates a voltage-dependent capacitance that exhibits both hysteresis (memory of prior bias state) and logarithmic aging (relaxation of domain polarization over time)HACC102S80V500 กําจัดผลทั้งสองอย่างโดยสิ้นเชิงโดยการใช้ซิลิคอนไดออกไซด์

• การซึมซึมแบบ Dielectric 0:เมื่อตัวประกอบอัดไฟถูกตัดสั้นชั่วคราวหลังจากการชาร์จ, ไดเอเล็คทริกที่สมบูรณ์แบบจะกลับไปยังความแรงดันศูนย์.1 ٪ ของการชาร์จเดิม) ที่ล่มสลายช้า ๆ ภายในวินาทีถึงนาที. SiO ปาราไฟฟ้าของ HACC102S80V500₂แสดงการดูดซึมไฟฟ้าแบบดียิเลคทริกต่ํากว่า 0.1% ในระดับ 1kHz มากกว่าเซรามิคชั้น II (25%) ในวงจรตัวอย่างและการถือความแม่นยําความผิดพลาดในการดูดซึมแบบดีเอเล็คทริก 5% หมายถึงความผิดพลาดในการวัดความกระชับกําลังไฟฟ้า 5%การดูดซึม SiO < 0.1%₂ลดความผิดพลาดนี้ให้เหลือน้อย
• อัตราการแก่ตัวไม่มาก:คลาส II X7R คอนเดเซนเตอร์แสดงความเสื่อมของคอนเดนเซนซ์โลการิทมิกประมาณ 3 ٪ ต่อสิบชั่วโมงเนื่องจากการผ่อนคลายโดเมนไฟฟ้าเหล็กคอนเดเซนเตอร์ 1000pF X7R ที่วัดใน t=0 จะพังลงเป็นประมาณ 950pF หลังจาก 1000 ชั่วโมงHACC102S80V500 ด้วย SiO ปาราไฟฟ้า₂dielectric มีแวดลักษณะไฟฟ้าเหล็กศูนย์ และดังนั้นการเก่าศูนย์ capacitance วัดใน t = 0 และ t = 10 ปี (87,600 ชั่วโมง) จะเหมือนกันภายในความไม่แน่นอนการวัดสําหรับระบบอากาศและอุตสาหกรรมที่มีอายุการใช้งานหลายทศวรรษ, นี้กําจัดกลไกการเคลื่อนไหวระยะยาวที่สําคัญที่ต้องการการปรับระยะยาว
• ไม่มีลุปไฮสเตเรซิสไดเอเลคทริกไฟฟ้าเหล็กแสดงลักษณะการขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้วขั้ว this means the capacitance measured while increasing voltage differs from the capacitance measured while decreasing voltage—creating a history-dependent uncertainty band of 2–10% in ferroelectric MLCCs. SiO ปาราไฟฟ้า₂ใน HACC102S80V500 ไม่มี P-V hysteresis; ความจุเป็นฟังก์ชันที่มีค่าเดียวของแรงดันและอุณหภูมิทันที, ไม่ว่าจะเป็นประวัติการณ์การเสี่ยงล่วงหน้า

2คุณลักษณะ C-V Ultra-Linear

ความจุของ MLCC ไฟฟ้าเหล็กลดลงอย่างสําคัญภายใต้ความกระชับกําลัง bias DC ภูมิปรากฏการณ์ที่รู้จักกันในนาม DC bias coefficient หรือ voltage coefficient of capacitance (VCC)ไดเอเลคทริกประเภท II X7R สามารถสูญเสีย 30~80% ของความจุที่ระบุได้HACC102S80V500 กําจัดการทําลายนี้ผ่านธรรมชาติ paraelectric ของ SiO₂:

• VCC ต่ํามาก (< 10 ppm/V):ไม่เหมือนกับโครงสร้างคริสตัลเบเรียมไทนาทเปโรฟสกิต ที่เปลี่ยนค่าคงที่แบบดิจิเล็คตริกของมันในการตอบสนองกับสนามไฟฟ้าที่ใช้ (อิทธิพลไฟฟ้ากระชับ)₂ปริมาณความจํากัดของไฟฟ้าที่ระดับ 3.9 เป็นอิสระจากสนามที่ใช้ค่า VCC ที่วัดได้ < 10 ppm/V หมายความว่าตัวประกอบ 1000pF ที่ 0V DC จะรักษาความจํากัด 999pF ที่ 80V DCนี่คือการปรับปรุง 300 × 800 × มากกว่า X7R MLCCs.
• พฤติกรรมวงจรที่คาดเดาได้ในเครือข่ายขัดแย้งของเครื่องขยายกําลัง RF a decoupling capacitor that experiences 50% capacitance droop under the nominal bias voltage creates a resonance shift in the bias tee that can detune the matching network by hundreds of MHz at microwave frequenciesคุณลักษณะ C-V ultra-linear ของ HACC102S80V500 ทําให้หลุมของความไม่แน่นอนของ impedance นี้หายไป ทําให้การจําลองวงจรที่คาดเดาได้ และการออกแบบการผ่านครั้งแรกประสบความสําเร็จ
• ไม่มี AC อัมพลิทูด์ไม่เส้นตรง:นอกจากผลกระทบความคัดค้าน DC แล้ว, ไดเอเล็คตริกไฟฟ้าเหล็กก็แสดงให้เห็นถึงความแตกต่างของความจุกับอัมพริตูด์ของสัญญาณ AC วงโค้ง C-V ยังไม่เป็นเส้นตรงแม้กระทั่งรอบจุดความคัดค้านศูนย์มันทําให้เกิดการบิดเบือนความสอดคล้อง: ความดันแบบซีนูโซอิด ผ่านตัวประกอบความแข็งไม่ตรงไปตรงมา สร้างกระแสฮาร์มอนิก₂ใน HACC102S80V500 มีการตอบสนองแบบแบบเส้นทางแบบ dielectric ถึงสนามการทําลายแบบ dielectric (> 10MV/cm)ความหมายของความจุเป็นอิสระจากขนาดสัญญาณ AC สําหรับระดับพลังงาน RF ทั้งหมดที่ใช้ได้ผ่านอุปกรณ์.

ลักษณะสําคัญ

• ความจําแบบดียิเลคทริกศูนย์:SiO ปาราไฟฟ้า₂ผสมไฟฟ้าที่ไม่มีโดเมนไฟฟ้าเหล็กกําจัดการดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูดแบบดึงดูด
• คุณลักษณะ C-V Ultra-Linear:ความจุจะแตกต่างกันน้อยกว่า 0.1% จากความแรงดัน DC ราคา 0V ถึง 80V (<10 ppm / V VCC) ไม่มีความไม่ตรงของความยืดของ AC จนถึงการทําลายไฟฟ้า
• ระดับความดันสูง (80V DC):SiO ความร้อน 300nm₂หน่วยไฟฟ้า dielectric ให้ > 200V DWV (250% เรท) กับความแข็งแรงในการทําลายภายใน > 10MV / cm เหมาะสําหรับเครือข่ายความกระตุ้นความแรงสูงในเครื่องเสริมพลังงาน GaN
• ความหนาแน่นความหนาแน่นสูง (1000pF):1000pF ใน 0.75mm × 0.75mm footprint ให้ความจุสูงสุดที่มีในแพลตฟอร์ม MOS แบบชั้นเดียว เหมาะสําหรับการเลี่ยงความถี่ต่ําและการเชื่อมต่อที่ MLCC จะนําความผิดพลาดความจําแบบ dielectric.
• แพลตฟอร์มที่สามารถปรับเปลี่ยนได้:ความจุจาก 10pF ถึง 1000pF ผ่านรอยเท้ามาตรฐานจาก 0.50 มม. ถึง 1.00 มม. มีการจัดลําดับความกระชับอัตราตามสั่ง, กณิตศาสตร์ชิป, และตัวเลือกการโลหะ

รายละเอียดไฟฟ้า (T = 25°C เว้นแต่ระบุไว้)

การใช้งานทั่วไป

• เครื่องวงจรการเก็บตัวอย่างแม่นยํา (S/H) ที่การดูดซึมแบบ dielectric จํากัดความแม่นยําของการวัดโดยตรง
• เครื่องกรองไฟเข้า ADC ความละเอียดสูง ที่ความจําแบบดิจิเล็คตริกของตัวประกอบสร้างความผิดพลาดออฟเฟสต์ที่ขึ้นอยู่กับความแรงดัน
• เครื่องเสริมพลังงาน GaN การแยกความวัดสูงของความเบี่ยงเบนที่ต้องการทั้ง 80V และการลดความจุของความเบี่ยงเบน DC
• เครื่องกรองแบบแอนาล็อกความแม่นยํา (เบเซล, บัตเตอร์วอร์ธ, วงกลม) โดยความละเอียดความอดทนและความเป็นเส้นตรงกําหนดความแม่นยําของช่วงผ่านของกรอง
• เครื่องเสริมเสียงก่อนที่มีความรู้สึกต่อการชาร์จสําหรับเครื่องตรวจจับรังสีที่การดูดซึมแบบแบบ dielectric สร้างความผิดพลาดในการฟื้นฟูเส้นเบื้องต้น
• อุปกรณ์ถ่ายภาพทางการแพทย์และเครื่องมือทางวิทยาศาสตร์ที่ต้องการความมั่นคงในการปรับระดับหลายปี โดยไม่ใช้ความเคลื่อนไหวของความจุ

การอ้างอิงรวดเร็วในการประชุม

• ตัดต่อ:AuSn เซลด์ยูเทคติก (300~320°C, N)₂/H₂ก๊าซสร้าง) สําหรับความต้านทานที่ต่ําที่สุด การนํา Ag epoxy (Epotek H20E, 120 °C / 30min) เป็นทางเลือก
• สายเชื่อม:25μm Au การเชื่อมโยงลูกบอล thermosonic (ระยะ 120-150 °C, แรง 15-35gf, ความแรงดึง > 6gf) การลงพันธะ ≥ 25μm จากขอบอิเล็กทรอนด์
• การเก็บรักษา:กระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋ากระเป๋า

การสั่งซื้อและการตั้งค่าตามความต้องการ

ผลิตภัณฑ์มาตรฐานส่งเป็นชิปสแควร์ขนาด 0.75 มิลลิเมตร × 0.75 มิลลิเมตรในกระเป๋าสะพายวอฟเฟิล

• ความจุที่กําหนดเองจาก 10pF ถึง 1000pF บนร่องรอยมาตรฐาน (0.50mm~1.00mm)
• ความแรงดันระดับจาก 6.3V ถึง 100V DC
• จิปจีโอเมทรีทรงสี่เหลี่ยมสูงถึงสัดส่วนรูป 4: 1
• การทําโลหะทางด้านหลังทางเลือกสําหรับกระบวนการประกอบเฉพาะ

ติดต่อเราด้วยคุณเป้าหมายรายละเอียดสําหรับการประเมินความเป็นไปได้และข้อเสนอราคา ตัวอย่างการประเมิน 1000pF มาตรฐาน ส่งภายใน 1-2 สัปดาห์