szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Ultra Niski ESR Cienkie pojemności Krok MOS Kondensatory Precyzyjne dostrojenie Wire Bond Design

Ultra Niski ESR Cienkie pojemności Krok MOS Kondensatory Precyzyjne dostrojenie Wire Bond Design

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC-CUSTOM-ES
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: L/C, D/A, D/P, T/T,
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shannxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Gęstość pułapek interfejsu:
1e10 cm^-2 eV^-1
Typ opakowania:
Forma śmierci
Typ podłoża:
Krzem typu P
Prąd upływowy:
1 nA
Napięcie przebicia:
10 v
Zakres częstotliwości:
1 kHz do 1 MHz
Szerokość bramy:
10 µm
Zakres temperatur:
-40°C do 125°C
Stężenie domieszki podłoża:
1e15 cm^-3
Pojemność:
1 pF
Długość bramy:
1 µm
Grubość tlenku:
10 Nm
Napięcie robocze:
0–5 V
Materiał bramy:
polikrzem
Materiał dielektryczny:
Dwutlenek krzemu (SiO2)
Podkreślić:

Kondensatory MOS o bardzo niskiej ESR

,

Kondensatory MOS o drobnej pojemności

,

Kondensatory MOS z wiązaniami drutowymi

Opis produktu

Niestandardowy kondensator MOS o ultra niskiej rezystancji szeregowej (ESR), wielogigabitowy, precyzyjne strojenie z drobnymi krokami pojemności, zoptymalizowana powierzchnia do połączeń drutowych


HACC-CUSTOM-ES: Kondensator MOS o ultra niskiej rezystancji szeregowej (ESR) dla wielogigabitowych SERDES z drobnymi krokami pojemności i zoptymalizowaną powierzchnią do połączeń drutowych

Zaprojektowana ultra niska rezystancja szeregowa (ESR) dla łączy wielogigabitowych

Kondensatory blokujące DC dla wielogigabitowych SERDES (Serializer/Deserializer) muszą spełniać rygorystyczne wymagania dotyczące rezystancji szeregowej (ESR). Przy 10 Gb/s i wyższych, nawet 0,1 oma ESR przyczynia się do strat wtrąceniowych, zamknięcia oka i deterministycznego drgania. HACC-CUSTOM-ES osiąga ESR <0,05 oma przy 10 GHz i <0,02 oma przy 40 GHz dzięki trzem równoczesnym optymalizacjom projektu:

  • Gruba na 3-5 µm złota elektroda górna: Zredukowana rezystancja powierzchniowa minimalizuje wkład efektu naskórkowego przy częstotliwościach mikrofalowych, utrzymując niską ESR w paśmie Nyquista wielogigabitowym.
  • Układ elektrod wielopalczastych: Równoległe ścieżki prądowe rozdzielają prąd RF, eliminując zagęszczenie prądu na krawędziach elektrod — główny mechanizm awarii ESR w projektach jednopalczastych.
  • Podłoże o niskiej rezystywności (N+ Si, <0,01 oma·cm): Minimalizuje rezystancję szeregową w obszarze półprzewodnikowym, zapewniając, że podłoże nie stanowi wąskiego gardła ESR.

ESR jest weryfikowana dla każdego pasma częstotliwości: <0,05 oma od 1-10 GHz, <0,1 oma od 10-20 GHz i <0,15 oma od 20-40 GHz — zapewniając projektantom gwarantowane marginesy ESR dla ich konkretnej szybkości transmisji danych SERDES.

Ultra-drobne kroki pojemności i precyzyjne strojenie wartości

Strojenie szybkich łączy szeregowych wymaga precyzyjnych wartości pojemności — nie tylko w ramach tolerancji, ale dokładnie takiej wartości, która została zoptymalizowana poprzez symulację. HACC-CUSTOM-ES oferuje krok pojemności o minimalnym przyroście 1 pF z rozdzielczością laserowego przycinania do 0,1 pF, osiągając ±2% wartości docelowej. Dostępny w serii z drobnymi krokami (1p, 2p, 3p, 5p, 7p, 10p, 15p, 22p, 33p, 47p, 68p, 100p) od 0,5 pF do 1000 pF. Każdy dysk przechodzi pomiar pojemności in-situ z zamkniętą pętlą sprzężenia zwrotnego z laserowym przycinaniem, a weryfikacja parametrów S po przycinaniu potwierdza wartość pojemności w rzeczywistym środowisku RF — nie tylko przy częstotliwości miernika LCR 1 MHz.

Metalizacja powierzchni zoptymalizowana pod kątem połączeń drutowych

Niezawodność połączeń drutowych w szybkich zespołach zależy od jakości metalizacji górnej. HACC-CUSTOM-ES posiada złotą metalizację powierzchni o grubości 3 µm z <50 nm Ra chropowatości powierzchni i kontrolowaną strukturą ziarna — osiągając siłę rozciągania przekraczającą 3,0 g zarówno dla drutów o średnicy 25 µm, jak i 18 µm, kompatybilną z procesami zgrzewania klinowego i kulkowego. Kontrolowana powierzchnia minimalizuje zmienność deformacji połączenia i zapewnia spójną impedancję kontaktu elektrycznego we wszystkich połączeniach w module wielodyskowym.

Kluczowe specyfikacje

Parametr Wartość
ESR przy 10 GHz <0,05 oma
ESR przy 40 GHz <0,02 oma
Krok pojemności 1 pF min, rozdzielczość przycinania laserowego 0,1 pF
Zakres pojemności Seria z drobnymi krokami od 0,5 pF do 1000 pF
Elektroda górna TiW-Au o grubości 3-5 µm
Chropowatość powierzchni <50 nm Ra Au
Siła rozciągania połączenia drutowego >3,0 g (drut 25 µm i 18 µm)
Współczynnik Q ≥50 przy 10 GHz, ≥30 przy 40 GHz
SRF >20 GHz typowo
Temperatura pracy -55°C do +125°C

Zastosowania

  • Blokowanie DC SERDES PAM4/NRZ — ESR <0,05 oma dla marginesu oka 56/112 Gbps, równomierne rozłożenie prądu wielopalczastego
  • Filtrowanie biasu wzmacniacza transimpedancyjnego (TIA) — dokładność przycinania laserowego 0,1 pF, weryfikacja parametrów S po przycinaniu dla precyzyjnego umiejscowienia bieguna filtra
  • Interposery modułów fotonicznych dużej prędkości — zoptymalizowane pod kątem połączeń drutowych Au o grubości 3 µm, kompatybilne z eutektyką AuSn, powierzchnia 50 nm Ra dla spójnej impedancji połączeń
  • Sieci biasu DSP optyki koherentnej — seria z drobnymi krokami 1 pF od 0,5 pF do 1000 pF, precyzyjne strojenie wartości do ±2% dla dokładnej pojemności odczepu DSP

Skontaktuj się z nami, podając docelową rezystancję ESR, wartość pojemności i wymagania dotyczące połączeń drutowych. Niestandardowe kondensatory MOS o ultra niskiej rezystancji ESR z precyzyjnym strojeniem krok po kroku wysyłane są w ciągu 5-7 dni roboczych.