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Condensador de una sola capa
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Condensador Cerámico de Chip de Baja ESR de 22pF 60V con Borde de un Solo Lado para Satcom de Banda Ka

Condensador Cerámico de Chip de Baja ESR de 22pF 60V con Borde de un Solo Lado para Satcom de Banda Ka

Nombre De La Marca: Hoan
Número De Modelo: HACC220S15V600
Cantidad Mínima De Pedido: 10 piezas
Condiciones De Pago: LC, D/A, D/P, T/T, Unión Occidental
Información detallada
Lugar de origen:
Shaanxi, China
Certificación:
ISO 9001:2015
Capacidad:
22pF ±10%
Fuerza de tracción de unión:
>5,0 gf (Método MIL-STD-883 2011)
Factor de disipación:
≤1,5 % a 1 kHz, 1 Vrms
Resistencia de aislamiento:
≥10⁴ MΩ @ tensión nominal
Proceso adhesivo:
H20E Epoxi / AuSn Eutéctico / Sinterizado-Ag
Resaltar:

Condensador de Baja ESR de 22pF

,

Condensador de Baja ESR de 60V

,

Condensador Cerámico de Chip de un Solo Lado

Descripción de producto

Resumen Técnico de Alta Frecuencia

presenta un margen cerámico aislante limpio alrededor del electrodo de oro superior, una presa de epoxi física que impide que la pasta de plata conductora cree un puente hacia el contacto superior durante la unión automatizada del die. El electrodo superior utiliza HACC220S15V600 es un condensador cerámico de capa única con borde de un solo lado (SLC) de ultra-miniatura y alta fiabilidad, diseñado para bloqueo de CC de banda ancha, acoplamiento de RF y adaptación de impedancia de onda milimétrica en los microcircuitos híbridos aeroespaciales y de comunicaciones comerciales más exigentes. Ofreciendo 22 pF ±10% de capacitancia con una 1 kHz, 1,0 Vrms, 25 °C y >150 V de tensión de ruptura (250% nominal), este condensador se presenta en un encapsulado increíblemente denso de 15 mil x 15 mil (0,38 mm x 0,38 mm) con un perfil ultra bajo de 0,15 mm (6 mil). Diseñado para un funcionamiento impecable de 0,8 GHz a 40,0 GHz en las bandas S a Ka, el HACC220S15V600 está optimizado para cargas útiles de banda Ka de comunicaciones por satélite (27-40 GHz), terminales de usuario de phased array comerciales, backhaul 5G mmWave y sistemas de telemetría aeroespacial donde cada hilo de unión nunca debe fallar y cada interfaz de conexión debe sobrevivir más de 15 años de funcionamiento continuo.La Supera consistentemente los requisitos de prueba de tracción destructiva de unión estándar de la industria en cada lote de oblea calificado. Los valores típicos de producción oscilan entre 5,5 y 8,0 gf, proporcionando un margen >3x sobre el mínimo de 1,5 gf para alambre de Au de 25 µm. Este margen es esencial para entornos aeroespaciales de alta vibración (DO-160, estándares RTCA) donde la fatiga de la unión es el modo de fallo dominante a largo plazo.

presenta un margen cerámico aislante limpio alrededor del electrodo de oro superior, una presa de epoxi física que impide que la pasta de plata conductora cree un puente hacia el contacto superior durante la unión automatizada del die. El electrodo superior utiliza TiW-Au con una capa de oro ultra gruesa mínima de 4,0 µm que proporciona una resistencia de tracción de hilo de unión consistente de >5,0 gf. El electrodo inferior emplea una pila TiW-Pt-Au donde la capa barrera de platino (Pt) es completamente insoluble en soldadura eutéctica AuSn, proporcionando una verdadera compatibilidad de conexión versátil con epoxi conductor (H20E), soldadura eutéctica AuSn (80/20) y unión de die con Ag sinterizado para aplicaciones de alta temperatura.Ventajas Clave de RendimientoUnión impecable y alta resistencia a la tracción — Oro ultra grueso de 4,0 µm con cumplimiento de estándares de la industria

La fiabilidad de la unión de hilos en condensadores de chip de 15 mil (0,38 mm) está fundamentalmente limitada por el

grosor del pad de oro de unión

. Cuando la capa de oro es delgada (<2,5 µm), la energía ultrasónica de la unión de cuña o bola termosónica se transmite a través del oro y fractura el dieléctrico cerámico subyacente, un defecto latente llamado "craterización subsuperficial" que pasa la prueba eléctrica pero se abre después de ciclos térmicos. El HACC220S15V600 elimina este modo de fallo con una capa mínima de oro puro de 4,0 µm depositada por pulverización sobre una base de adhesión TiW.Resistencia a la tracción de unión >5,0 gf: Supera consistentemente los requisitos de prueba de tracción destructiva de unión estándar de la industria en cada lote de oblea calificado. Los valores típicos de producción oscilan entre 5,5 y 8,0 gf, proporcionando un margen >3x sobre el mínimo de 1,5 gf para alambre de Au de 25 µm. Este margen es esencial para entornos aeroespaciales de alta vibración (DO-160, estándares RTCA) donde la fatiga de la unión es el modo de fallo dominante a largo plazo.

  • Cero defectos de craterización: La capa de Au dúctil de 4,0 µm absorbe mecánicamente 40-100 mW de energía de unión ultrasónica, distribuyéndola lateralmente sobre toda el área del pad de 80 µm x 80 µm en lugar de transmitirla verticalmente al sustrato cerámico de 0,15 mm. Prueba de muestra de tracción de unión al 100% por lote de oblea — cero fallos de unión a través de >15.000 uniones calificadas.
  • Amplia ventana de proceso de unión: Compatible con unión de cuña (20-40 gf, 60-120 mW, 120-150 °C de etapa) y unión de bola (15-35 gf, 40-100 mW, 150 °C de etapa) utilizando alambre de Au de 18-25 µm en todas las plataformas de unión principales (K&S, F&K Delvotec, TPT, Hybond). El grosor de 4,0 µm proporciona el margen de proceso necesario para líneas de producción de alta mezcla donde los parámetros de unión cambian frecuentemente entre lotes de ensamblaje.
  • Listo para unión con cinta de oro: La capa de Au ultra gruesa soporta la unión con cinta de oro de 25 µm x 250 µm (1 mil x 10 mil) para aplicaciones de bypass de RF de alta corriente en etapas de salida de amplificadores de potencia GaN, donde la unión con cinta reduce la inductancia de interconexión a
  • <0,05 nH.Criterios de inspección visual post-unión: Bajo magnificación 50x, la unión debe mostrar
  • <25% de deformación del pad, sin craterización visible, sin desprendimiento de Au, y el centro de la unión a ≥25 µm del borde cerámico. Estos criterios se verifican en el 100% de las uniones en dispositivos con cribado de alta fiabilidad.Conexión Inferior Versátil — Epoxi, Eutéctica o Ag SinterizadoLas líneas de ensamblaje aeroespaciales y de alta fiabilidad comerciales utilizan múltiples tecnologías de unión de die dependiendo de los requisitos térmicos y de fiabilidad del módulo. El

electrodo inferior TiW-Pt-Au

del HACC220S15V600 está diseñado para ser universalmente compatible con los tres métodos de conexión principales:Epoxi de Plata Conductora (Epotek H20E): Estándar para aplicaciones sensibles al costo y de temperatura moderada. Curado a 120 °C durante 30 minutos. La capa barrera de Pt evita la migración de iones de plata del epoxi al acabado de Au, un mecanismo de degradación a largo plazo conocido en condensadores sin borde. Recomendado para: satcom comercial, infraestructura 5G, equipos de prueba y medición.

  • Soldadura Eutéctica AuSn (80/20): Requerido para aplicaciones de alta conductividad térmica (portadores de PA GaN, módulos de phased array de alta potencia). Reflujo a 300-320 °C bajo gas formador N2/H2. La
  • capa barrera de platino (Pt) es la tecnología clave que lo permite: la soldadura AuSn fundida disuelve agresivamente los electrodos de oro estándar en segundos a temperatura de reflujo, exponiendo la capa de adhesión TiW a la oxidación. El Pt es termodinámicamente inmune a AuSn — ni se disuelve ni forma intermetálicos — preservando una conexión a tierra verdadera compatible con múltiples ciclos de reflujo con epoxi conductor (H20E), soldadura eutéctica AuSn (80/20) y unión de die con Ag sinterizado para aplicaciones de alta temperatura. Recomendado para: PAs GaN-on-SiC, terminales de phased array comerciales, transpondedores satelitales.Unión de Die con Plata Sinterizada (Ag):
  • Tecnología emergente para módulos de semiconductores de banda ancha >300 °C. La pasta de sinterización de plata aplicada a 250-300 °C bajo presión forma una unión de Ag pura con una conductividad térmica >60 W/m·K. La barrera de Pt es igualmente efectiva contra la interdifusión Ag-Au a temperaturas de sinterización. Recomendado para: módulos de potencia SiC, electrónica geotérmica/subterránea de alta temperatura, sistemas de control de motores de próxima generación.Esta triple compatibilidad elimina la necesidad de calificar y almacenar números de pieza de condensadores separados para diferentes líneas de ensamblaje, una simplificación significativa de la cadena de suministro para contratistas de múltiples programas.

Alta Estabilidad TCC y VCC — Dieléctrico Clase I COG/NPO

El HACC220S15V600 utiliza

dieléctrico cerámico paraeléctrico Clase I COG/NPO (C0G/NP0) — el dieléctrico de condensador más estable disponible. A diferencia de los dieléctricos ferroeléctricos Clase II (X7R, X5R) que exhiben variaciones de capacitancia grandes y no lineales con la temperatura y el voltaje, COG/NPO es fundamentalmente paraeléctrico y, por lo tanto:TCC: 0 ±30 ppm/°C

  • — la capacitancia varía menos del ±0,3% de -55 °C a +125 °C. Para un condensador de 22 pF en banda Ka (35 GHz), esto significa que la impedancia (±0,3%) y la pérdida de retorno S11 cambian en <0,03 dB en todo el rango de temperatura — indetectable en la calibración a nivel de sistema.VCC:
  • <10 ppm/V — coeficiente de voltaje efectivamente cero. A diferencia de X7R, que pierde el 50-80% de su capacitancia bajo polarización de CC (un efecto de sujeción de dominio ferroeléctrico), la capacitancia COG/NPO es independiente del voltaje de CC aplicado. En un circuito de divisor de tensión donde el condensador ve el voltaje de suministro de CC completo, esto significa que la impedancia de acoplamiento de RF es idéntica con y sin polarización de CC — sin desafinación, sin necesidad de reoptimización.Sin envejecimiento:
  • COG/NPO tiene tasa de envejecimiento cero. La capacitancia X7R decae logarítmicamente a 3-5% por década-hora debido a la relajación del dominio ferroeléctrico — un sistema desplegado de 10 años con condensadores X7R tendrá valores de capacitancia un 15-25% por debajo de su especificación original. COG/NPO elimina completamente este desvío a largo plazo. La capacitancia medida hoy es igual a la capacitancia medida en 2036.Absorción dieléctrica ultra baja (
  • <0,1%): Crítico para circuitos de muestreo y retención de alta velocidad y preamplificadores sensibles a la carga donde los efectos de memoria dieléctrica (absorción) introducen errores de voltaje. La naturaleza paraeléctrica de COG/NPO significa una retención de carga casi nula después de la descarga.Hoja de Datos de Parámetros Completa

Categoría de Especificaciones

Parámetro Técnico Valor Garantizado Condiciones de Prueba Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) 22 pF ±10% 1 kHz, 1,0 Vrms, 25 °C Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) 60 V -55 °C a +125 °C continuo Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) >150 V (250% nominal) 5 seg de permanencia, 100% probado Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) ≤1,5% 1 kHz, 1,0 Vrms Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) ≥10 4P3: ¿Cómo beneficia el VCC casi nulo del COG/NPO específicamente a las cargas útiles de satélite en banda Ka?A 60 V CC, 25 °C Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) 0,8 - 40,0 GHz Bloqueo y acoplamiento de CC de banda ancha Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) >30 GHz (unión de hilo), >45 GHz (flip-chip) Alúmina de 10 mil, unida por hilo Eléctrico
ESL (Inductancia Serie Equivalente) <30 pH Trayectoria coaxial de capa única Temperatura
TCC (Coeficiente de Temperatura) -55 °C a +125 °C Cumplimiento paramétrico completo Temperatura
TCC (Coeficiente de Temperatura) 0 ±30 ppm/°C COG/NPO, -55 °C a +125 °C Físico
Dimensiones del Contorno 0,38 × 0,38 × 0,15 mm 15 × 15 × 6 mil, ±25 µm Metalización
Electrodo Inferior TiW-Au (≥4,0 µm Au) Pad de unión ultra grueso, pulverizado Metalización
Electrodo Inferior TiW-Pt-Au (≥2,5 µm Au) Barrera de difusión de Pt, pulverizada Mecánico
Resistencia a la Tracción de Unión >5,0 gf (típ. 6,5 gf) Prueba de tracción destructiva estándar de la industria, alambre de Au de 25 µm Ensamblaje
Métodos de Conexión Inferior Epoxi / Eutéctica AuSn / Ag Sinterizado Electrodo inferior triple compatible Fiabilidad
Almacenamiento y Vida Útil 20-25 °C, 40-60% HR, gabinete de N2, 1 año Entorno de sala limpia Ingeniería de Metalización de Película Delgada

Electrodo

Capa Material Grosor Función Metalúrgica Superior
Adhesión TiW Base Pulverizada Adhesión simétrica a la superficie cerámica inferior. Acabado de Unión
Au ≥2,5 µm Oro puro ultra grueso. Absorbe energía ultrasónica (40-120 mW) y fuerza de unión (15-40 gf), previniendo la craterización de la cerámica. Proporciona >5,0 gf de resistencia a la tracción según pruebas de tracción destructiva estándar de la industria. Inferior
Adhesión TiW Base Pulverizada Adhesión simétrica a la superficie cerámica inferior. Barrera de Difusión
Pt Barrera Pulverizada Barrera de platino — 100% insoluble en soldadura AuSn y Ag sinterizado. Durante el reflujo eutéctico de 300-320 °C, los electrodos de Au estándar se disuelven en segundos. El Pt es termodinámicamente inmune, preservando la interfaz TiW y asegurando <10 mΩ de resistencia a tierra a través de múltiples ciclos de reflujo y la vida útil completa de la misión.Acabado de Conexión
Au ≥2,5 µm Acabado triple compatible para epoxi H20E, eutéctica AuSn (80/20) y unión de die con Ag sinterizado. Preguntas Frecuentes

P1: ¿Qué hace que el electrodo superior de Au de 4,0 µm logre una resistencia a la tracción de unión >5,0 gf cuando los SLC estándar con Au de 2,5 µm solo logran 2-3 gf?

La resistencia a la tracción de unión en electrodos de oro de película delgada se rige por dos mecanismos de fallo: (1)

fallo cohesivo dentro de la capa de oro — el propio oro se rompe bajo tensión de tracción, y (2) fallo adhesivo en la interfaz Au-TiW — la película de oro se despega de la capa de adhesión. El grosor de 4,0 µm de Au mejora ambos: el oro más grueso tiene un mayor área transversal (80 µm × 4,0 µm = 320 µm² frente a 200 µm² para 2,5 µm), aumentando directamente la fuerza requerida para el fallo cohesivo en un 60%. Más importante aún, la capa de Au más gruesa distribuye la energía de unión ultrasónica lateralmente en lugar de concentrarla en la interfaz Au-TiW, previniendo la formación de microvacíos interfaciales que nuclean fallos de despegue adhesivo. El resultado es una mejora fundamental en ambos modos de fallo, produciendo una resistencia a la tracción típica de >5,0 gf frente a 2-3 gf para electrodos de grosor estándar.P2: ¿Por qué la barrera de Pt (Platino) permite la conexión inferior triple compatible?

Cada método de conexión ataca los electrodos de Au estándar de manera diferente:

la soldadura AuSn disuelve el oro en segundos a 300-320 °C; el epoxi de plata permite la electromigración de iones Ag+ a la red de Au durante años de polarización de CC; el Ag sinterizado impulsa la interdifusión Ag-Au a 250-300 °C. El platino (Pt) es singularmente inmune a los tres: tiene solubilidad cero en Sn fundido (a diferencia del Au, que tiene ~5% en átomos de solubilidad en Sn a 300 °C), forma ningún intermetálico con Ag (a diferencia del Au-Ag, que forma una solución sólida completa), y su coeficiente de auto-difusión es 104 veces menor que el Au a temperaturas de soldadura. La capa de Pt tiene solo 100-200 nm de grosor — invisible para las corrientes de RF — pero impenetrable para los tres mecanismos de degradación.P3: ¿Cómo beneficia el VCC casi nulo del COG/NPO específicamente a las cargas útiles de satélite en banda Ka?En un transpondedor satelital en banda Ka (27-40 GHz), los condensadores de bloqueo de CC en las etapas LNA, mezclador y PA ven el voltaje de polarización de CC completo continuamente. Con condensadores X7R, la pérdida de capacitancia del 50-80% bajo polarización de CC desplaza la impedancia de acoplamiento, desafinando las redes de adaptación de inter-etapas en cientos de MHz — requiriendo reoptimización en cada condición de polarización. Con COG/NPO (un diseño de red de adaptación funciona para todas las condiciones de polarización

), y el rendimiento del transpondedor en órbita después de 15 años es idéntico a su calibración previa al lanzamiento. Para un operador de satélite, esto elimina la necesidad de reajuste en órbita y proporciona la confianza de que la especificación de rendimiento de RF se cumplirá durante toda la vida útil de la misión.<10 ppmV VCC), the 22 pF capacitance changes by <0.02% from 0 to 60 V—a negligible impedance shift at 35 GHz. This means Guía de Ingeniería y Ensamblaje de Parámetros SMatriz de Selección de Unión de DieMétodo

Proceso

Conductividad Térmica

Mejor para Epoxi H20E 120 °C / 30 min ~2 W/m·K
Satcom comercial, infraestructura 5G, instrumentación Eutéctica AuSn 300-320 °C, N2/H2 ~50 W/m·K
Portadores de PA GaN, terminales de phased array, transpondedores satelitales Ag Sinterizado 250-300 °C, presión >60 W/m·K
Módulos de potencia SiC, aplicaciones industriales >300 °C Parámetros de Unión de Hilo Hilo: 0,7-1,0 mil (18-25 µm) 99,99% Au

Cuña:

  • 20-40 gf, 60-120 mW, etapa de 120-150 °CBola:
  • 15-35 gf, 40-100 mW, etapa de 150 °CEspacio libre:
  • Centro de unión ≥25 µm del borde del electrodoInspección:
  • Óptica 50x; rechazar >25% de deformación del pad, craterización o violaciones de proximidad al bordePara solicitar datos de tracción de unión, parámetros S hasta 40 GHz o informes de calificación de conexión, contacte a nuestro equipo de ventas hoy mismo.

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