Подробная информация о продукции

Created with Pixso. Дом Created with Pixso. Продукты Created with Pixso.
Конденсаторы MOS
Created with Pixso.

Миниатюризированные конденсаторы MOS высокой плотности 220pF 30V

Миниатюризированные конденсаторы MOS высокой плотности 220pF 30V

Название бренда: Hoan
Номер модели: ХАСС221С30В120
минимальный заказ: 10 шт.
Условия оплаты: Л/К, Д/А, Д/П, Т/Т
Детальная информация
Место происхождения:
Шэньси, Китай
Сертификация:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Емкость:
220пФ ±10% (доступно ±5%)
Номинальное напряжение:
30 В.
Размеры чипа:
0,35 х 0,35 х 0,15 мм (ультраминиатюрный)
Плотность емкости:
1796пФ/мм²
SRF на уровне чипа:
>2 ГГц (без соединительного провода, без встроенного)
Система SRF (проволока 0,5 мм):
>500 МГц (один провод Au 25 мкм)
Внутренний чип ESL:
<0,03 нГн
СОЭ @ 1 ГГц:
<0,08 Ом
Выделить:

Миниатюризированный МОП-конденсатор 220 пФ 30 В

,

Высокоплотный МОП-конденсатор на уровне пластины

,

Конденсатор чип SLC с высокой частотной стабильностью

Характер продукции

Миниатюрный высокоплотный МОП-конденсатор HACC221S30V120: 220 пФ, 30 В с исключительной стабильностью на высоких частотах и ​​возможностью индивидуальной настройки на уровне пластины

HACC221S30V120 — это однослойный МОП-конденсатор емкостью 220 пФ ±10% с номинальным напряжением 30 В постоянного тока, изготовленный на кремнии с зоной плавающего зонда (>1000 Ом·см) с термически выращенным диэлектриком из SiO2 толщиной 300 нм. Благодаря ультраминиатюрному размеру всего 0,35 x 0,35 x 0,15 мм — сокращение площади на 51% по сравнению со стандартными чипами 0,50 мм — это устройство достигает ведущей в отрасли плотности емкости 1796 пФ/мм², сохраняя при этом исключительную стабильность на высоких частотах с собственной резонансной частотой на уровне кристалла, превышающей 2 ГГц. Верхнее металлизированное покрытие TiW-Au (минимум 2,5 мкм Au) и заднее покрытие TiW-Pt-Au (минимум 1,0 мкм Au, платиновый барьер диффузии) обеспечивают надежное проволочное соединение и универсальную совместимость с креплением кристалла. Полностью настраивается с помощью дизайна на уровне пластины: емкость, номинальное напряжение, геометрия кристалла, структура металлизации и конфигурации многокристаллических массивов — все это адаптируется к вашим спецификациям при поддержке OEM от прототипа до серийного производства.

1. Миниатюрный высокоплотный дизайн — 1796 пФ/мм² на площади 0,35 мм

Постоянное стремление к созданию более мелких, легких и интегрированных ВЧ-модулей требует конденсаторов, обеспечивающих максимальную емкость при минимальной площади. HACC221S30V120 достигает этого благодаря передовой фотолитографии и прецизионному изготовлению пластин:

  • Размер 0,35 x 0,35 мм (0,1225 мм²)— на 51% меньше, чем у стандартного МОП-конденсатора 0,50 мм (0,25 мм²). Размещается между близко расположенными GaAs и GaN MMIC на плотных плитках фазированной антенной решетки, что обеспечивает более высокую плотность каналов без увеличения площади носителя.
  • Плотность емкости 1796 пФ/мм²— 220 пФ на площади 0,1225 мм² обеспечивают в 2 раза большую площадь емкости по сравнению со стандартными МОП-конденсаторами 100 пФ/0,50 мм (400 пФ/мм²). Достигается за счет оптимизированной геометрии электрода, которая максимизирует активную площадь конденсатора как долю от общей площади кристалла.
  • Ультранизкий профиль 0,15 мм— половина высоты MLCC типоразмера 0402 (0,30 мм). Помещается в герметичные зазоры крышек модулей и позволяет осуществлять 3D-стековую гибридную сборку, где вертикальное пространство имеет решающее значение.

2. Исключительная стабильность на высоких частотах — собственная резонансная частота >2 ГГц для приложений миллиметрового диапазона

На частотах миллиметрового диапазона саморезонанс конденсатора становится основным ограничивающим фактором производительности. HACC221S30V120 обеспечивает исключительную стабильность на высоких частотах благодаря своей однослойной коаксиальной архитектуре и минимизированной паразитной индуктивности:

  • Собственная резонансная частота на уровне кристалла: >2 ГГц— Измерение с удалением паразитных элементов подтверждает саморезонанс выше типичных пределов MLCC (600-800 МГц) и далеко в пределах микроволновых частот. Это достигается за счет однослойного пути тока без внутренних электродов, без переходных отверстий и без змеевидной трассировки — устраняя механизмы паразитной индуктивности, которые ограничивают собственную резонансную частоту MLCC до 600-800 МГц.
  • Системная собственная резонансная частота с монтажным проводом 0,5 мм: >500 МГц— Достаточно для приложений 5G NR ниже 6 ГГц, спутниковых L/S-диапазонов и байпаса Wi-Fi 6E. Для более высоких частот параллельные монтажные провода или ленточное соединение повышают системную собственную резонансную частоту до более чем 800 МГц.
  • Собственная индуктивность кристалла (ESL):<0,03 нГн— в 15-20 раз ниже, чем у MLCC с эквивалентной емкостью в корпусе 0402 (0,4-0,6 нГн). Ультранизкая ESL гарантирует, что конденсатор сохраняет емкостное поведение (импеданс уменьшается с частотой) на значительно более высоких частотах, чем альтернативы MLCC.
  • Эквивалентное последовательное сопротивление (ESR)<0,08 Ом при 1 ГГц— Минимизирует потери I²R в цепях согласования импеданса. В выходном согласовании усилителя мощности 5G n77 это восстанавливает 0,3-0,8 дБ потерь при прохождении по сравнению с эквивалентным MLCC.

3. Индивидуальная настройка на уровне пластины и поддержка OEM — дизайн в соответствии с вашими спецификациями

HACC221S30V120 построен на конфигурируемой платформе МОП-конденсаторов на уровне пластины. В отличие от поставщиков, предлагающих только каталожные изделия, мы предлагаем полную индивидуальную настройку OEM от изготовления пластины до финального тестирования:

  • Индивидуальные значения емкости:от 5 пФ до 1000 пФ на платформе 0,35 мм с допуском ±5% или более строгим. Лазерная подстройка с разрешением 0,1 пФ для приложений точной настройки.
  • Индивидуальные геометрии кристалла:Прямоугольные соотношения сторон до 4:1, неправильные формы (Г-образные, кольцевые) для нестандартных корпусов гибридных схем и конфигурации многокристаллических массивов (2-8 каналов).
  • Индивидуальная металлизация:Верхняя: TiW-Au (стандартная), с алюминиевой металлизацией или предварительным осаждением AuSn. Задняя: TiW-Pt-Au (стандартная), только Au, AuSn, AuGe или AuSi для конкретных процессов сборки.
  • Варианты поставки на уровне пластины:Полная пластина (с пробными контактами, маркировкой, картой), распиленная пластина на раме, лотки с гелевым покрытием с вакуумным снятием, вафельные лотки с картами KGD или лента и катушка для автоматизированной сборки.
  • 100% тестирование на уровне пластины:Каждый кристалл проходит тестирование DC-параметров (емкость, утечка, DWV) и характеристик RF S-параметров от 100 МГц до 20 ГГц. Цифровые карты пластин KGD и контроль процесса SPC (CpK >1,67) предоставляются на партию.
  • Непрерывность от прототипа до производства:Тот же процесс изготовления пластины, та же программа тестирования, те же стандарты качества от прототипа (MOQ 10 штук) до серийного производства. Без миграции процесса, без повторной квалификации.

Ключевые особенности

  • Миниатюрный высокоплотный:Размер 0,35 мм, плотность 1796 пФ/мм², профиль 0,15 мм — обеспечивает сокращение площади на 51% по сравнению со стандартными МОП-конденсаторами 0,50 мм
  • Исключительная стабильность на высоких частотах:>2 ГГц собственная резонансная частота кристалла, <0,03 нГн ESL, <0,08 Ом ESR — сохраняет емкостное поведение на частотах миллиметрового диапазона
  • Индивидуальная настройка на уровне пластины:Индивидуальная емкость, напряжение, геометрия, металлизация и конфигурации массива от прототипа до серийного производства
  • Полная поддержка OEM:Совместная разработка от спецификации до квалификации, 100% тестирование на уровне пластины с картами KGD и данными SPC на партию
  • Стабильность диэлектрика SiO2:Параэлектрический с нулевым старением ферроэлектрика, нулевым спадом емкости под действием постоянного напряжения и ТКЕ +35 ppm/°C

Электрические характеристики (T = 25°C, если не указано иное)

Параметр Значение Условие
Емкость 220 пФ ±10% 1 МГц, 1,0 В среднеквадр.
Номинальное напряжение постоянного тока 30 В Непрерывно
Диэлектрическая прочность >75 В (250% от номинального) Выдержка 5 сек, 100% тест
Собственная резонансная частота кристалла >2 ГГц Без монтажного провода, с удалением паразитных элементов
Собственная индуктивность кристалла <0,03 нГн С удалением паразитных элементов
Системная собственная резонансная частота (провод 0,5 мм) >500 МГц Одиночный провод Au 25 мкм
Утечка при 25°C <10 нА 30 В постоянного тока
Утечка при 125°C <100 нА 30 В постоянного тока
Сопротивление изоляции ≥10¹⁴ МОм Номинальное напряжение постоянного тока
Коэффициент рассеяния ≤0,15% 1 кГц, 1,0 В среднеквадр.
Прочность проволочного соединения >6 gf Au 25 мкм (MIL-STD-883)
Температура хранения -65°C до +150°C -
ESR при 1 ГГц <0,08 Ом Типично
Коэффициент добротности при 1 МГц / при 1 ГГц >2000 / >300 Типично
Утечка при 25°C / при 125°C <10nA > 30 В постоянного тока
ТКЕ +35 ppm/°C -55°C до +125°C
Плотность емкости 1796 пФ/мм² 220 пФ на площади 0,1225 мм²
Диэлектрик Термический SiO2, 300 нм -
Размеры кристалла 0,35 x 0,35 x 0,15 мм ±15 мкм
Верхнее/заднее металлизированное покрытие TiW-Au 2,5 мкм / TiW-Pt-Au 1,0 мкм -
Рабочая температура -55°C до +125°C Полный параметрический
Влагочувствительность MSL 1 J-STD-020
RoHS Соответствует EU 2015/863

Типичные применения

  • Плиты фазированных антенных решеток 5G FR2 миллиметрового диапазона, требующие максимальной плотности каналов и собственной резонансной частоты кристалла >2 ГГц для микроволнового байпаса и связи
  • Многоканальные спутниковые коммуникационные полезные нагрузки (LEO/MEO), где на 51% меньшая площадь позволяет увеличить количество каналов в 2 раза на площадь носителя
  • Высокоплотные гибридные микросхемы, интегрирующие конденсаторы между близко расположенными GaAs/GaN MMIC
  • Схемы смещения MMIC автомобильных радаров, требующие почти идеального емкостного поведения выше типичных пределов MLCC
  • Высокоскоростные оптические трансиверные интерпозеры (100G/400G/800G), где профиль 0,15 мм помещается в герметичный зазор крышки TOSA/ROSA
  • Индивидуальные приложения с многокристаллическими массивами, где гибкость проектирования на уровне пластины позволяет создавать одночиповые решения, заменяющие несколько дискретных компонентов

Краткое руководство по индивидуальной настройке и сборке OEM

Крепление кристалла:Эвтектический припой AuSn (300-320°C, N2/H2) для минимальной индуктивности заземления. Проводящий эпоксидный клей Ag (Epotek H20E, 120°C/30 мин) для сборки с низким температурным бюджетом.

Проволочное соединение:Термозвуковое шаровое соединение Au диаметром 18 мкм или 25 мкм (температура столика 120-150°C, прочность на разрыв >6 gf). Для оптимизации собственной резонансной частоты используйте двойные параллельные соединения или ленту Au 25 мкм x 75 мкм.

Индивидуальная настройка на уровне пластины:Свяжитесь с нашей командой OEM, чтобы обсудить ваши целевые значения емкости, напряжения, геометрии кристалла, металлизации и требования к формату поставки. Прототипы отправляются через 3-4 недели с полными данными параметрического тестирования и картами пластин KGD.

Хранение:Вафельный лоток, гелевый лоток или уровень пластины в соответствии со спецификацией заказчика. MSL 1 неограниченный срок службы на полу при 30°C/85% относительной влажности.

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы обсудить ваши потребности в миниатюрных высокоплотных конденсаторах. Стандартные образцы для оценки 220 пФ 0,35 мм отправляются в течение 2-3 недель. Индивидуальные дизайны на уровне пластины с полной поддержкой OEM доступны со сроком изготовления прототипа 3-4 недели.