szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Niezawodne wysokie napięcie awaryjne 1000 pF Kondensatory MOS Niskie wycieki Ultra stabilne TCC Wire Bondable Chip

Niezawodne wysokie napięcie awaryjne 1000 pF Kondensatory MOS Niskie wycieki Ultra stabilne TCC Wire Bondable Chip

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC102S80V750
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: L/C, D/A, D/P, T/T,
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shaanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015
Pojemność:
1000 pF ±10% (dostępne niestandardowe ±5%)
Napięcie znamionowe:
80V DC
Wytrzymywane napięcie dielektryczne (DWV):
>200 V (>2,5× znamionowe), 100% testowane pod kątem produkcji
Rezystancja izolacji:
≥10⁴ MΩ przy napięciu znamionowym prądu stałego, 25°C
Prąd upływu @ 25°C:
<10 nA przy 80 V DC
Prąd upływu @ 125°C:
<100 nA przy 80 V DC
Współczynnik Q @ 1 MHz:
>2000
ESR przy 1 GHz:
<0,1 oma
Wewnętrzny układ ESL:
<0,05 nH (de-wbudowany)
Częstotliwość samorezonansowa (SRF):
Poziom chipa >1,5 GHz, >600 MHz z przewodem łączącym Au o średnicy 0,5 mm
Współczynnik rozpraszania:
≤0,15% przy 1 kHz, 1,0 Vrms
TCC (współczynnik temperaturowy):
0 ±30 ppm/°C (-55°C do +125°C, COG/NPO klasa I)
VCC (współczynnik odchylenia DC):
<10 ppm/V (napięcie znamionowe od 0 V do 80 V)
Absorpcja dielektryczna:
<0,05% przy 1 kHz
Rezystywność podłoża:
>1000 Ohm·cm, krzem w strefie pływającej
Żywotność TDDB:
> 10 lat w temperaturze 125°C i napięciu znamionowym (zweryfikowany przyspieszony test trwałości)
Wymiary chipa:
0,75 × 0,75 × 0,20 mm (tolerancja ±25µm)
Najlepsza metalizacja:
TaN/TiW/Ni/Au, ≥2,5µm Au
Metalizacja z tyłu:
TiW-Pt-Au, ≥1,0µm Au (bariera dyfuzyjna Pt)
Architektura projektowa:
Dwustronne z obramowaniem (margines)
Siła ciągnięcia drutu:
> 6 gf dla drutu Au 25µm (MIL-STD-883 metoda 2011.7)
Typ mocowania:
Łączone drutem / przewodzące żywice epoksydowe, eutektyka AuSn lub matryca spiekana
Ocena ESD:
Klasa 0 (HBM) zgodnie z JESD22-A114
Temperatura pracy:
-55°C do +125°C
Wrażliwość na wilgoć:
MSL 1 (nieograniczona trwałość podłogi zgodnie z J-STD-020)
Podkreślić:

Niestandardowy kondensator MOS o wysokim napięciu awaryjnym

,

ultra stabilny układ TCC

,

niskiej wycieku kondensator bypassowy 1000 pF

Opis produktu

HACC102S80V750 Niestandardowy kondensator MOS o wysokim napięciu przebicia 1000pF 80V Ultra stabilny układ TCC o niskim upływie, łączony drutem

TheHACC102S80V750to wysoce niezawodny, w pełni konfigurowalny jednowarstwowy kondensator MOS zaprojektowany z myślą o wymagających zastosowaniachWysokie napięcie przebicia,Bardzo niski prąd upływowy, IWyjątkowa stabilność pojemności w funkcji temperatury i napięcia. Wyprodukowany na podłożu krzemowym w strefie float o wysokiej rezystancji (>1000 Ohm·cm) z SiO hodowanym termicznie 300 nm2dielektryczny, to urządzenie zapewnia pojemność 1000 pF ± 10% przy ciągłym napięciu roboczym 80 V DC w kompaktowej obudowie o wymiarach 0,75 * 0,75 * 0,20 mm. Architektura Double-Sided Bordered (Margin) zapewnia ochronę żywicą epoksydową i odniesienie do wyrównania wiązania drutowego. Górna elektroda TiW-Au o grubości co najmniej 2,5 µm złota zapewnia doskonałą niezawodność wiązania drutu, podczas gdy tylna część TiW-Pt-Au z platynową (Pt) barierą dyfuzyjną zapewnia uniwersalną kompatybilność z mocowaniem matrycowym w procesach przewodzącej żywicy epoksydowej, eutektyki AuSn i spiekanego Ag. Dostępne z pełnym dostosowaniem wartości pojemności, napięcia znamionowego, geometrii chipa, typu dielektryka i stosu metalizacji, aby dokładnie spełnić wymagania dotyczące obwodu RF.

Kluczowe zalety wydajności

1. Wysokie napięcie przebicia i bardzo niski prąd upływowy

Przebicie dielektryka jest jednym z najczęstszych mechanizmów uszkodzeń pola w kondensatorach chipowych pracujących przy podwyższonym napięciu. HACC102S80V750 eliminuje to ryzyko dzięki zachowawczym marginesom projektowym i wysokiej jakości termicznemu SiO2dielektryk:

  • Napięcie znamionowe:Ciągłe napięcie stałe 80 V — odpowiednie dla sieci z polaryzacją drenażu wzmacniaczy mocy GaN pracujących przy napięciu 28–50 V ze znacznym zapasem dla stanów nieustalonych zasilania i odbić od niedopasowania obciążenia
  • Wytrzymywane napięcie dielektryczne (DWV):>200 V DC (wartość znamionowa >2,5*) — 100% testów produkcyjnych na każdej matrycy. Przekracza wytyczne dotyczące obniżania wartości znamionowych 2* zalecane przez branżowe standardy niezawodności dla zastosowań o wysokiej niezawodności
  • Prąd upływowy:<10nA przy 25°C, <100nA przy 125°C — wyjątkowo niskie nawet przy maksymalnej temperaturze znamionowej. Mierzone przy pełnym polaryzacji 80 V DC
  • Jednolity rozkład pola:W przeciwieństwie do kondensatorów MLCC, w których wewnętrzne krawędzie elektrod skupiają pola elektryczne, stwarzając ryzyko wyładowań niezupełnych, płaska struktura metal-izolator-półprzewodnik kondensatora MOS zapewnia równomierny rozkład pola na całej powierzchni kondensatora
  • Zależny od czasu rozkład dielektryka (TDDB):Trwałość >10 lat w temperaturze 125°C i napięciu znamionowym — zweryfikowana w drodze przyspieszonych testów trwałości

Dla projektanta obwodów oznacza to niezawodne blokowanie prądu stałego i obejście częstotliwości radiowej bez konieczności szeregowego układania wielu kondensatorów o niższym napięciu, co zmniejsza liczbę komponentów, złożoność montażu i kumulację tolerancji. Margines napięcia 2,5* pochłania stany nieustalone zasilania, odbicia od niedopasowania obciążenia i przesunięcia polaryzacji DC, które mogłyby stanowić wyzwanie dla kondensatorów o niższych wartościach znamionowych.

2. Wyjątkowa stabilność pojemności w stosunku do temperatury i napięcia

Pojemność, która dryfuje wraz z temperaturą lub polaryzacją prądu stałego, powoduje problemy kaskadowe w precyzyjnych obwodach RF: wahania częstotliwości VCO, rozstrojenie sieci dopasowujących, przesunięcie częstotliwości narożnych filtra. Paraelektryczny ceramiczny dielektryk COG/NPO (C0G/NP0) zastosowany w modelu HACC102S80V750 zapewnia stałą stabilność:

  • Współczynnik temperaturowy (TCC):0 ±30 ppm/°C w zakresie -55°C do +125°C — wahania pojemności poniżej ±0,3% w całym zakresie temperatur 180°C. Jest to 50* bardziej stabilne niż klasa II X7R (±15%) i 100* bardziej stabilne niż X5R (±15% w węższym zakresie)
  • Współczynnik napięcia polaryzacji DC (VCC):<10 ppm/V — niemal zerowe przesunięcie pojemności od 0 V do pełnego napięcia znamionowego 80 V. Dielektryki X7R/X5R tracą 30-80% pojemności znamionowej pod wpływem polaryzacji prądu stałego z powodu zaciskania domeny ferroelektrycznej; COG/NPO jest układem paraelektrycznym i utrzymuje stałą impedancję obejścia na wszystkich poziomach polaryzacji
  • Efekt zerowego starzenia:Brak domen ferroelektrycznych — pojemność jest stabilna przez cały okres użytkowania produktu. Kondensatory klasy II ulegają degradacji logarytmicznej (3-5% na dekadę-godzinę) w miarę relaksacji domen ferroelektrycznych. Kondensator zmierzony przy 100 nF po rozpływie może odczytać 85 nF po 10 000 godzin — HACC102S80V750 całkowicie eliminuje ten mechanizm dryfu
  • Niska absorpcja dielektryczna:<0,1% — minimalizuje wpływ pamięci ładunku w zastosowaniach próbkowania i przechowywania oraz precyzyjnych integratorach

W przypadku systemów obronnych i lotniczych o żywotności kilkudziesięciu lat, charakterystyka zerowego starzenia się COG/NPO eliminuje krytyczny długoterminowy mechanizm dryfu pojemności, który w przeciwnym razie wymagałby okresowej ponownej kalibracji lub wymiany komponentów.

3. Łączony drutem górny kontakt z wielowarstwową metalizacją

Górna elektroda zawiera zaawansowany czterowarstwowy, cienkowarstwowy stos metalizacji napylanej metodą napylania —TaN/TiW/Ni/Auo minimalnej grubości złota 2,5 µm — zapewniające solidne i wysokowydajne łączenie przewodów w środowiskach zautomatyzowanego montażu:

  • Warstwa przyczepna TaN:Tworzy najsilniejsze znane wiązanie chemiczne blokujące tlenki z ceramicznym dielektrykiem, zapobiegając rozwarstwianiu elektrody pod wpływem szybkich cykli termicznych (ΔT=180°C)
  • Bariera dyfuzyjna TiW:Gęsta bariera amorficzna zapobiega migracji zanieczyszczeń krzemu lub podłoża do warstwy złota — eliminując kruche tworzenie się międzymetali na styku wiązania
  • Warstwa zapobiegająca wypłukiwaniu Ni:Całkowicie nierozpuszczalny w lutach AuSn i bezołowiowych — zachowuje integralność wiązania podczas rozpływu eutektycznego w wysokiej temperaturze
  • Powierzchnia wiążąca Au (≥2,5µm):Grube, plastyczne złoto mechanicznie pochłania energię wiązania ultradźwiękowego o mocy 40-100 mW, zapobiegając awariom wiązania/kraterowania. Wytrzymałość wiązania na rozciąganie > 6 gf dla drutu Au 25 µm — przekraczająca MIL-STD-883 Metoda 2011.7

Wymiary 0,75*0,75 mm zapewniają dużą powierzchnię styku drutu, mieszczącą wiele równoległych połączeń w celu zmniejszenia indukcyjności w zastosowaniach wysokoprądowych. Kompatybilny z termodźwiękowym klejeniem kulkowym 18–25 µm i ultradźwiękowym klejeniem klinowym Al 25–33 µm.

Platforma dostosowywania — zaprojektowana zgodnie z Twoją specyfikacją

HACC102S80V750 jest zbudowany na naszej konfigurowalnej platformie kondensatorów MOS. Oferujemy pełną personalizację z możliwością szybkiego prototypowania:

Parametr Wartość standardowa Zakres niestandardowy
Pojemność 1000pF ±10% 10 pF – 10 000 pF; Dostępna jest tolerancja ±5% lub węższa
Napięcie znamionowe 80 V prądu stałego 6,3 V – 500 V DC (jednowarstwowe); do 1000V (dielektryk skumulowany)
Typ dielektryka COG/NPO (klasa I) X7R (klasa II), formuły o wysokiej zawartości K lub niestandardowe
Wymiary chipa 0,75*0,75*0,20mm 0,25*0,25 mm do 5,0*5,0 mm; prostokątny do 4:1 AR; dostępne nieregularne geometrie
Najlepsza metalizacja TaN/TiW/Ni/Au, 2,5µm Au Do 5,0 µm Au; Opcja metalizowana Al
Metalizacja z tyłu TiW-Pt-Au, 1,0µm Au Tylko Au, osadzanie wstępne AuSn (3-5 µm), AuGe lub AuSi do mocowania w wysokiej temperaturze
Architektura projektowa Obramowany dwustronnie Jednostronne Z obramowaniem lub bez obramowania
Czas realizacji prototypu 3-4 tygodnie Przyspieszone 1-2 tygodnie dla wartości standardowych

Dane techniczne

Parametr Wartość Warunek testowy
Pojemność nominalna 1000pF ±10% 1 MHz, 1,0 Vrms, 25°C
Znamionowe napięcie prądu stałego 80 V Ciągła, od -55°C do +125°C
Napięcie wytrzymujące dielektryk >200 V (>2,5* znamionowe) 5 sekund przerwy, 100% test produkcyjny
Prąd upływu @ 25°C <10nA 80 V prądu stałego
Prąd upływu @ 125°C <100nA 80 V prądu stałego
TCC 0 ±30 ppm/°C -55°C do +125°C, COG/NPO
VCC (współczynnik odchylenia DC) <10 ppm/V Napięcie znamionowe od 0 V do 80 V
Współczynnik Q przy 1 MHz >2000 Typowy
ESR przy 1 GHz <0,1 oma De-osadzone
Wewnętrzny układ ESL <0,05nH Usunięty z parametru S
Współczynnik rozproszenia ≤0,15% 1 kHz, 1,0 Vrms
Absorpcja dielektryczna <0,05% 1 kHz
Wymiary chipa 0,75 * 0,75 * 0,20 mm Tolerancja ±25µm
Temperatura pracy -55°C do +125°C Pełna zgodność parametryczna
Wrażliwość na wilgoć MSL 1 Nieograniczona żywotność podłogi zgodnie z J-STD-020
Zgodność z dyrektywą RoHS Tak UE 2015/863, bezhalogenowy zgodnie z IEC 61249-2-21

Typowe zastosowania

  • GaN-on-SiC HEMT Wzmacniacz mocy Odsprzęganie polaryzacji drenu (zasilanie 28-50 V)
  • Filtrowanie wyjścia wysokonapięciowego konwertera DC-DC
  • Blokowanie prądu stałego wzmacniacza mocy RF w sieciach trójnikowych
  • Pulsacyjne magazynowanie energii i obejście
  • Moduł T/R z układem fazowanym, odsprzęganie zasilania wysokiego napięcia
  • Dystrybucja zasilania magistrali komunikacji satelitarnej (LEO/MEO/GEO)
  • Dopasowanie przemysłowego generatora plazmowego RF (pasma ISM 13,56/27,12 MHz)
  • ATE Pin Electronics Odsprzęganie wysokiego napięcia
  • Moduły radarów samochodowych i V2X (76–81 GHz, zgodne z AEC-Q200)

Skrócona instrukcja montażu

  • Die Dołącz:Przewodząca żywica epoksydowa ze srebrem (Epotek H20E, utwardzanie 120°C/30 min), lut eutektyczny AuSn (300-320°C, gaz tworzący N₂/H₂) lub spiekany Ag do zastosowań wysokotemperaturowych. Dolna bariera Pt zapewnia uniwersalną kompatybilność
  • Łączenie drutu:Klejenie kulkowe termodźwiękowe o grubości 25 µm (etap 120-150°C, siła 15-35 gf, ultradźwiękowe 40-80 mW, siła rozciągania > 6 gf) lub ultradźwiękowe łączenie klinowe o grubości 25 µm Al w temperaturze pokojowej. Wiele równoległych wiązań dla prądu RF >1A RMS
  • Rozliczenie obligacji:Przyłączenie ≥25µm od krawędzi elektrody. Margines ceramiczny zapewnia jednoznaczne odniesienie optyczne dla zautomatyzowanych systemów wizyjnych typu wire bonding
  • Składowanie:Opakowanie waflowe lub opakowanie żelowe w szafce z azotem w temperaturze 20–25°C i wilgotności względnej 40–60%. MSL 1: nieograniczona trwałość podłogi przy ≤30°C/85%RH. 1 rok gwarantowanego okresu trwałości w optymalnych warunkach

Skontaktuj się z nami już dziśzgodnie z wymaganiami dotyczącymi napięcia, pojemności i geometrii. Standardowe próbki ewaluacyjne 1000 pF 80 V wysyłane są w ciągu 1–2 tygodni. Niestandardowe napięcia znamionowe (do 500 V w przypadku jednowarstwowego, 1000 V w stosie), wartości pojemności, wymiary chipów i opcje metalizacji dostępne z czasem realizacji prototypów wynoszącym 3–4 tygodnie. Pełna dokumentacja dotycząca zgodności z dyrektywami RoHS, REACH, bezhalogenowymi, danymi parametrów S i raportami identyfikowalności partii dostarczanymi dla każdej partii produkcyjnej.