dettagli dei prodotti

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Condensatori MOS
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Controllo della resistività del drogaggio del substrato per condensatori MOS con geometria irregolare del die e chip a matrice binaria

Controllo della resistività del drogaggio del substrato per condensatori MOS con geometria irregolare del die e chip a matrice binaria

Marchio: Hoan
Numero di modello: HACC100S10V101
MOQ: 10 pezzi
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shanxi, Cina
Certificazione:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Gamma di capacità:
da pF a nF
Tensione di rottura:
10-15 MV/cm (campo di degradazione dell'ossido)
Corrente di perdita:
Tipicamente nell'intervallo da pA a nA
Intervallo di temperatura:
-55°C a 125°C
Struttura:
Semiconduttore di ossido di metallo
Materiale del substrato:
Silicio
spessore dell'ossido:
Tipicamente 1-10 nm
Evidenziare:

Controllo del drogaggio del substrato per condensatori MOS

,

Geometria irregolare del die per condensatori MOS

,

Chip a matrice binaria per condensatori MOS

Descrizione di prodotto

Capacitore MOS personalizzato Substrato Doping Controllo della resistenza Array Disposizioni irregolari Geometria a die Array di condensatore binario


HACC100S10V101: condensatore MOS progettato su substrato con matrici binarie e geometria irregolare

Controllo del doping e della resistività del substrato su misura

L'HACC100S10V101 offre la personalizzazione delle proprietà elettriche del substrato di silicio come parametro di progettazione, non come predefinito fisso della fonderia.I profili di doping N+ o P+ sono adattati per raggiungere la resistività target da 0.001 ohm·cm (forte doping, bassa resistenza di serie per alta Q) a 1000 ohm·cm (leggero doping, minimizzata capacità di giunzione per alta SRF).La larghezza della regione di esaurimento sotto bias è controllata dal profilo di doping, che consente la formazione di curve C-V specificate dal cliente: capacità piatta rispetto alla tensione per applicazioni lineari, o pendenza C-V controllata per la regolazione a varactor.L'uniformità della resistività è di ± 5% a livello di wafer e di ± 2% all'interno della matrice, verificato da strutture di prova PCM (Process Control Monitor) su ogni wafer.Questo livello di ingegneria del substrato è disponibile perché l'HACC utilizza un processo di fusione di condensatori MOS dedicato non un flusso di logica CMOS riutilizzato.

Disposizioni di matrice non standard personalizzate e geometria irregolare

I condensatori MOS standard sono matrici rettangolari con una singola piastra condensatore.polygonale, anulare), modelli di array multi-cavità e posizionamento di pad ruotato o offset sono tutti supportati.Ciò consente l'integrazione del condensatore in circuiti ibridi non standard , transizioni a guida d'onda, o strutture di gestione termica, senza la necessità di un interposatore o di un PCB separato.La capacità di produrre geometrie irregolari è resa possibile dal processo di segatura e singolazione HACC, che supporta le mappe di strada in dadi definite dal cliente e i contorni non ortogonali.

Array di condensatori binari integrati a più valori

Una singola matricola HACC100S10V101 può integrare più valori del condensatore in una matrice ponderata binaria:2:4:8 con una ponderazione su 4 8 blocchi condensatori indipendenti, con valori di capacità da 5 pF a 1000 pF per blocco.che consentono una connessione indipendente o parallela a livello del circuito ibridoL'isolamento da blocco a blocco supera i 40 dB a 1 GHz e il substrato condiviso mantiene un coefficiente di temperatura pari (TCC < 30 ppm/°C) su tutti i blocchi.Questo sostituisce più condensatori discreti con un singolo matrice, riducendo i passaggi di assemblaggio, il numero di fili di legame e l'impronta del circuito ibrido, fornendo al contempo la flessibilità di progettazione per selezionare qualsiasi combinazione di valori durante il legame del filo.

Specificità principali

Parametro Valore
Capacità 5pF ∼ 10 000pF, blocchi di matrice ponderati binariamente
Tipo dielettrico SiO2, SiN, Al2O3 alto-k, 50 ‰ 5000 Å
Resistenza del substrato 0.001 1000 Ω·cm, N+/P+ su misura
TCC < 30 ppm/°C (equivalente NPO/COG)
Valore nominale della tensione 6.3V ̇ 200V
Forza dielettrica 250% del valore nominale, TDDB > 10 anni a 125°C
RSE < 0,1 Ω a 1 GHz
Metalizzazione superiore TiW-Au, metallizzato, pre-deposito AuSn
Metalizzazione di fondo TiW-Au, TiW-Ni-Au, AuSn, epossidica Au
Dimensione del chip 0.25*0.25mm 5.0*5.0mm, forme irregolari
Temperatura di funzionamento -55°C a +125°C
Consegna Gel-Pak, waffle pack, nastro e bobina, a livello di wafer

Applicazioni

  • Multi-Channel Phased Array Beamformers ️ array di condensatori binari per sintonizzazione per elemento, singolo die riduce il BOM
  • Integrazione di circuiti ibridi personalizzati
  • Reti di sintonizzazione ad alta precisione  adattamento del doping del substrato per esigenze specifiche di curva C-V
  • Moduli SiP con spazio limitato array multi-value elimina più posizionamenti SLC discreti

Contattaci con i tuoi valori di capacità, la resistività del substrato e i requisiti di geometria della matrice.