detalhes dos produtos

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Capacitor de camada única
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Microplaqueta limitada do RF da metalização do TiW-Au do capacitor 10pF 100V da única camada ESR

Microplaqueta limitada do RF da metalização do TiW-Au do capacitor 10pF 100V da única camada ESR

Marca: Hoan
Número do modelo: HACC100S10V101
Quantidade mínima: 10
Condições de pagamento: L/C,D/P,D/A,T/T,
Informações pormenorizadas
Lugar de origem:
China
Tensão suportável dielétrica (DWV):
250% da tensão nominal (100V → 250V)
Série de resistência equivalente (ESR):
<0,1Ω a 1 GHz
Tipo de material dielétrico:
Classe I (COG/NPO) / Classe II (X7R)
Força de tração da ligação do fio:
>3,0 gramas (atende MIL-STD-883)
Tipo de substrato:
Silício tipo P
Comprimento do portão:
1 μm
Faixa de temperatura:
°C -40 a 125
Destacar:

Capacitor de Camada Única 10pF 100V

,

Capacitor de Chip RF Metalização TiW-Au

,

Capacitor de Camada Única Baixo ESR

Descrição do produto

HACC100S10V101 Capacitor de chip cerâmico de camada única (10pF,100V)

O que é um condensador de camada única de borda (margem) unilateral?

Em circuitos integrados híbridos de microondas de alta densidade (ICs), os engenheiros enfrentam um desafio comum de montagem: durante a fixação da matriz, o epóxi de prata condutor (como o H20E) pode sangrar,rastejar para cima os lados do condensador chip, e ponte com o elétrodo superior, causando um curto-circuito catastrófico.

O HACC100S10V101 resolve este problema com o seu design de borda (margem) unilateral.a superfície superior é constituída por um elétrodo central de ouro de alta pureza (TiW-Au) cercado por umEsta estrutura de cerâmica exposta atua como uma barreira física, bloqueando efetivamente qualquer sangramento de epoxi de entrar em contacto com o elétrodo superior ativo,Garantia de ligação sem defeitos durante a montagem automatizada.

Material e estrutura de metalização de filme fino
O HACC100S10V101 possui um sistema de metalização de película fina de várias camadas de alta qualidade para garantir a fiabilidade a longo prazo sob tensões térmicas e mecânicas severas:

• Eletrodo superior:TiW-Au (Titanio-Tungsténio / Ouro) com uma espessura global de ouro de≥ 2,5 μm Min. Esta camada de ouro espessa e de alta pureza é otimizada para a ligação de arame de ouro termo-sônico de alta fiabilidade (ligação de arame Au).
• Eletrodo inferior:TiW-Pt-Au (Titanio-Tungsténio / Platina / Ouro) com uma espessura global de≥ 2,5 μm Min. A inclusão de uma camada de barreira de platina (Pt) impede a migração intermetálica de prata para ouro quando se utilizam epoxies condutoras de prata, garantindo a máxima adesão.

Dimensões

Microplaqueta limitada do RF da metalização do TiW-Au do capacitor 10pF 100V da única camada ESR

Especificações técnicas (HACC100S10V101)

Parâmetro técnico Valor de especificação Teste/condições ambientais
Número da parte HACC100S10V101
Estilo do condensador Chip cerâmico de camada única (SLC) Tipo de borda (margem) unilateral
Capacidade 10 pF±10% Medido @ 1kHz, 1Vrms, 25°C, sem DCBias
Voltagem nominal 100VDC Margem de fiabilidade de alta tensão
Intervalo de temperatura de funcionamento -55°C a +125°C Compete plenamente aos padrões de nível tático
Sistema de metalização superior TiW-Au (Au > 2,5 um Min) Soldáveis e ligáveis a fios
Metalização de fundo TiW-Pt-Au (Au > 2,5 um Min) Excelente compatibilidade com o epoxi condutor
Capacidade de frequência Otimizado para banda GHz ESR e ESL ultra-bajos em faixas de microondas

As melhores práticas de montagem e ligação de fios de ouro

Para obter um rendimento de montagem ideal ao integrar o HACC100S10V101 nos seus módulos de RF:

1.Epoxi condutor:
• Recomenda-se fortemente a montagem com epoxi de prata condutora (por exemplo, H20E).
• Perfil de cozimento/curagem recomendado: cozer a 120°C durante 30 minutos para garantir uma fixação mecânica e elétrica robusta.
2Margem de ligação de fio de ouro:
•Para evitar o micro-quebra-cabeça da cerâmica ou a delaminação da película de ouro durante a ligação termo-sônica de fios,a bola/quebra de ligação deve ser colocada a uma distância mínima de 25 μm da borda exterior da almofada de ouro.
3- Força de colocação:
•Mantenha controlada a força da bocal para evitar tensões localizadas no corpo cerâmico de uma única camada.

Aplicações típicas de microondas de alta frequência
•Células pequenas de onda milimétrica (mmWave) 5G e 6G
• Transmissores ópticos eletrónicos (módulos SFP/QSFP 100G/400G)
•Amplificadores de RF de alta potência GaAs, GaN e InP (bypass e desacoplamento)
•Circuitos de bloqueio de corrente contínua LNA (Low Noise Amplifier)
•Comunicações por satélite (Satcom) e Aviónica Táctica