szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

Niskie pojemności kwantowe kondensatory MOS 100pF 200V Ultra wysoki pole rozpadu dielektrycznego jednowarstwowy chip dla HV RF

Niskie pojemności kwantowe kondensatory MOS 100pF 200V Ultra wysoki pole rozpadu dielektrycznego jednowarstwowy chip dla HV RF

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC101S200V801
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: L/C, D/A, D/P, T/T
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015, RoHS
Pojemność:
100 pF ±10% (dostępne ±5%)
Napięcie znamionowe:
200 V prądu stałego
Prąd upływu @ 25°C:
<10 nA przy 200 V DC
Prąd upływu @ 125°C:
<100 nA przy 200 V DC
Temperatura pracy/przechowywania:
-55°C do +125°C / -65°C do +150°C
RoHS:
Zgodny (UE 2015/863)
Podkreślić:

Niski kondensator MOS o pojemności kwantowej 100pF

,

Kondensator MOS 200V o ultra-wysokim polu przebicia dielektrycznego

,

Jednowarstwowy chip HV RF kondensatora MOS

Opis produktu

HACC101S200V801 Niskokapacytancyjny kondensator MOS 100pF 200V Jednowarstwowy kondensator chipowy RF z możliwością połączenia drutowego


Definicja produktu: HACC101S200V801 to jednowarstwowy kondensator metalowo-tlenkowo-półprzewodnikowy (MOS) zbudowany na podłożu krzemowym typu float-zone o wysokiej rezystywności z gęstym, termicznie narastającym dielektrykiem z tlenku krzemu (SiO2). Zapewnia pojemność 100 pF (±10%) przy napięciu roboczym 200 V DC w chipie o wymiarach 0,50 mm × 0,50 mm × 0,15 mm z możliwością połączenia drutowego. Ta sama rodzina urządzeń jest również opisywana jako kondensator jednowarstwowy (SLC), kondensator chipowy RF, kondensator z możliwością połączenia drutowego lub kondensator MOS.

Jego dwie cechy definiujące to niski efekt pojemności kwantowej i ultra-wysokie pole przebicia dielektrycznego (>10 MV/cm). Razem zapewniają płaską, ultra-liniową charakterystykę C-V i wysokie napięcie znamionowe 200 V w kompaktowej kostce.


Kluczowe cechy


Niski efekt pojemności kwantowej

W każdej strukturze MOS mierzona pojemność jest kombinacją szeregową pojemności tlenku (Cox) i pojemności półprzewodnika, która obejmuje pojemność kwantową (Cq) związaną z skończoną gęstością stanów na powierzchni krzemu. Gdy Cq jest porównywalne z Cox, całkowita pojemność staje się zależna od napięcia i częstotliwości i spada poniżej oczekiwanej wartości tlenku. HACC101S200V801 jest zaprojektowany z silnie domieszkowanym elektrodą krzemową typu float-zone i zoptymalizowanym interfejsem, tak aby Cq pozostawało ponad 10× większe niż Cox. Efekt pojemności kwantowej jest zatem zaniedbywalny, a urządzenie zachowuje się jak prawie idealny kondensator tlenkowy: mierzona wartość jest równa geometrycznej pojemności tlenku, płaska w całym zakresie napięć i stabilna z częstotliwością.

Ultra-wysokie pole przebicia dielektrycznego (>10 MV/cm)

Dielektrykiem jest wysokiej jakości termiczny SiO2 o niskiej gęstości defektów i wewnętrznym polu przebicia przekraczającym 10 MV/cm. Ta wytrzymałość dielektryczna zapewnia ciągłe napięcie znamionowe 200 V DC i napięcie przebicia dielektrycznego powyżej 500 V DC (250% znamionowego) w kompaktowym chipie 20 mil z możliwością połączenia drutowego, zapewniając duży zapas dla wysokich napięć w łańcuchach sygnałowych RF, wstrzykiwaniu napięcia polaryzacji i zdarzeniach przejściowych. Napięcie przebicia dielektrycznego jest weryfikowane na 100% jednostek produkcyjnych.

Stabilna wydajność przy niskich stratach

Współczynnik temperaturowy pojemności wynosi około +35 ppm/°C, prawie liniowy od -55°C do +125°C, z niskim współczynnikiem napięcia polaryzacji DC (<10 ppmV). Q exceeds 2000 przy 1 MHz, ESL jest poniżej 0,05 nH, a prąd upływu pozostaje poniżej 10 nA przy 200 V, co czyni urządzenie odpowiednim do precyzyjnych filtrów obejściowych RF, blokowania DC i sieci dopasowujących.


Specyfikacje elektryczne (T = 25°C, chyba że zaznaczono inaczej)


Parametr Wartość Warunek testu
Pojemność 100 pF ±10% 1 MHz, 1,0 Vrms
Znamionowe napięcie DC 200 V Ciągłe
Pole przebicia dielektrycznego >10 MV/cm Wewnętrzne, termiczne SiO2
Napięcie przebicia dielektrycznego >500 V DC 1 minuta, 25°C, testowane w 100%
Efekt pojemności kwantowej Zaniedbywalny (Cq >10× Cox) —
TCC +35 ppm/°C -55°C do +125°C
Współczynnik napięcia polaryzacji DC <10 ppm/V 0 V do napięcia znamionowego
Współczynnik dobroci >2000 @ 1 MHz Typowy
Współczynnik stratności ≤0,15% 1 kHz, 1 Vrms
ESL <0,05 nH Wyodrębnione
SRF >8 GHz Poziom chipa, typowy
Prąd upływu <10 nA 200 V DC, 25°C
Wymiary chipa 0,50 × 0,50 × 0,15 mm ±25 µm
Temperatura pracy -55°C do +125°C —
RoHS Zgodny UE 2015/863


Niezawodność i kwalifikacja (wartości typowe)


Test Warunek Wynik
Pociąganie drutu 25 µm drutu Au, destrukcyjne >6 gf
Wrażliwość na wilgoć J-STD-020 MSL 1
TDDB (czasowe przebicie dielektryczne) 125°C, napięcie znamionowe >10 lat życia
Zakres temperatur -55°C do +125°C Pełna zgodność parametryczna


Typowe zastosowania


  • Sieci blokowania DC i wstrzykiwania napięcia polaryzacji RF wysokiego napięcia
  • Dopasowanie impedancji we wzmacniaczach mocy i przedwzmacniaczach antenowych pracujących powyżej 100 V
  • Precyzyjne filtry obejściowe i odsprzęgające, gdzie płaska charakterystyka C-V i niska zależność od częstotliwości są krytyczne
  • Przyrządy pomiarowe i kalibracyjne standardy VNA
  • Podsystemy RF medyczne i sprzęt do generowania RF przemysłowego

Niskie pojemności kwantowe kondensatory MOS 100pF 200V Ultra wysoki pole rozpadu dielektrycznego jednowarstwowy chip dla HV RF

+8618740357801