szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Do domu Created with Pixso. Produkty Created with Pixso.
Kondensatory MOS
Created with Pixso.

E

E

Nazwa marki: Hoan
Numer modelu: HACC101S30V200
MOQ: 10 sztuk
Warunki płatności: L/C, D/A, D/P, T/T,
Informacje szczegółowe
Miejsce pochodzenia:
Shaanxi, Chiny
Orzecznictwo:
ISO 9001:2015, RoHS, REACH
Pojemność:
100pF ±10% (dostępne ±5%)
Napięcie znamionowe:
30 V DC
Maksymalna temperatura robocza:
200°C (ciągła)
Tolerancja ESD (HBM):
>2kV (klasa 2 według JESD22-A114)
Tolerancja ESD (CDM):
>500V (wg JESD22-C101)
Wewnętrzny układ ESL:
<0,05 nH
SRF (drut łączący 0,5 mm):
> 800 MHz
ESR przy 1 GHz:
<0,1 oma
Współczynnik Q @ 1 MHz / @ 1 GHz:
>2000 / >200
Współczynnik rozpraszania:
≤0,15% przy 1 kHz, 1,0 Vrms
TCC:
+35 ppm/°C (-55°C do +200°C)
Rezystancja izolacji:
≥10⁴ MΩ przy napięciu znamionowym prądu stałego, 25°C
Wyciek @ 25°C / @ 200°C:
<10nA / <500nA przy 30V DC
Dielektryk:
Termiczny SiO2, 300nm (stabilny w wysokiej temperaturze)
Podłoże:
Strefa pływakowa Si, >1000 Ohm·cm
Rezystywność podłoża:
>1000 Ohm·cm, krzem w strefie pływającej
Wymiary chipa:
0,50 × 0,50 × 0,15 mm
Najlepsza metalizacja:
TiW-Au, ≥2,5µm Au
Siła ciągnięcia drutu:
>6 gf dla drutu Au 25µm w 25°C (>5gf po 1000 godz. w 200°C)
Metalizacja z tyłu:
TiW-Pt-Au, ≥1,0µm Au (bariera Pt, temperatura znamionowa 200°C)
Architektura projektowa:
Dwustronne z obramowaniem (margines)
Typ mocowania:
Możliwość mocowania drutem / eutektykiem AuSn lub żywicą epoksydową o wysokiej temperaturze
Absorpcja dielektryczna:
<0,1% przy 1 kHz
Wrażliwość na wilgoć:
MSL 1 (nieograniczona trwałość podłogi zgodnie z J-STD-020)
Podkreślić:

kondensator MOS wysokotemperaturowy 200C

,

jednowarstwowy kondensator chipowy RF

,

kondensator MOS odporny na ESD 30V

Opis produktu

HACC101S30V200 Kondensator MOS o ekstremalnie wysokiej temperaturze: 100 pF 30V przy ciągłym działaniu w temperaturze 200°C i wyższej tolerancji ESD

W sprawieHACC101S30V200jest jednowarstwowym kondensatorem MOS 100pF ±10% o nominalnej mocy 30V DC,zaprojektowane do ciągłej pracy w temperaturach do 200°C, znacznie przekraczających normę przemysłową 125°C dla konwencjonalnych kondensatorów MOSWytwarzane z krzemu strefy pływającej (> 1000Ω·cm) z SiO wyhodowanym termicznie w 300 nm2urządzenie to zawiera utwardzony stos metalizacji i specjalistyczną pasywację w celu utrzymania stabilności parametrów w ekstremalnych temperaturach.15 mm z metalizacją górną TiW-Au (2Z wyższą tolerancją ESD przekraczającą 2kV HBM i 500V CDM,HACC101S30V200 jest przeznaczony do najbardziej wymagających warunków pracy w wierceń w dole.W pełni dostosowalne: pojemność od 10 do 220 pF, napięcie od 6,3 do 50 V, geometria chipów,i alternatywne stosy metalizacyjne dostępne z 4 ̇ 6 tygodniowym czasem realizacji prototypu.

1. Działanie w ekstremalnie wysokich temperaturach do 200°C

Konwencjonalne kondensatory MOS na bazie krzemu są zazwyczaj przeznaczone do maksymalnej temperatury połączenia 125 °C, ograniczonej przez trzy podstawowe mechanizmy degradacji, które przyspieszają w podwyższonych temperaturach.HACC101S30V200 odpowiada na każde z nich poprzez inżynierię materiałów i margines projektowania:

Prąd przecieku w temperaturze

Prąd przecieku tlenku krzemowego zwiększa się wykładniczo wraz z temperaturą z powodu emisji termoionicznej i tunelowania Fowler-Nordheim.2W przypadku napięcia znamionowego biegnik dielektryczny wykazuje wyciek o wartości około 100nA. Przy napięciu 200°C wynosi on zazwyczaj 1,5 μA, co jest niedopuszczalnym poziomem dla układów precyzyjnych.HACC101S30V200 utrzymuje wyciek poniżej 500nA w temperaturze 200 °C poprzez zoptymalizowany proces utleniania termicznego, który minimalizuje gęstość pułapki interfejsu (Dit < 5 × 1010cm-2eV-1Obniżona gęstość pułapki zmniejsza komponent tunelowania wspomagany pułapką prądu wycieku, który dominuje w podwyższonych temperaturach.

Stabilność metalizacji w temperaturze 200°C

System metalizacji TiW-Au jest specjalnie wybrany dla stabilności w wysokich temperaturach.Bariera dyfuzyjna TiW (tytanu-wolframu) zapobiega interdyfuzji krzemu-złota, która w przeciwnym razie tworzyłaby kruche eutectyki Au-Si w temperaturach powyżej 180 °CWarstwa TiW o długości 100 nm utrzymuje swoją strukturę amorficzną i integralność bariery przy temperaturze co najmniej 250°C, co potwierdzono profilowaniem głębokości spektroskopii elektronicznej Augera po 1000 godzinach przechowywania w temperaturze 200°C.5 μm minimalna złota elektroda górna pozostaje wolna od utleniania przy wszystkich praktycznych temperaturach, utrzymując nieograniczoną jakość powierzchni spawalnych i łączących się z drutem.

Długość eksploatacji w warunkach wysokiej temperatury (HTOL)

Kryteria akceptacji: przesunięcie pojemności < 2%, prąd wycieku < 2 × początkowy i siła ciągnięcia wiązania drutu > 5 gf po naprężeniu.To przyspieszenie o temperaturze 75°C powyżej standardowego wymogu HTOL 125°C., zapewniając wykazany margines niezawodności dla użytkowników pracujących w temperaturze pośredniej (150-175°C).

2. Wyższa tolerancja ESD Metoda projektowania i badań

Rozładowanie elektrostatyczne (ESD) jest główną przyczyną uszkodzeń ukrytych kondensatorów chipowych podczas montażu i obsługi.Model ciała ludzkiego (HBM) przedstawia osobę obciążoną, która rozładowuje się przez komponentHACC101S30V200 zawiera wiele funkcji konstrukcyjnych, aby osiągnąć wyjątkową tolerancję ESD:

  • Gęsty SiO2Wymagania w zakresie bezpieczeństwa:300nm SiO termiczny2dielektryczny ma dielektryczną wytrzymałość awarii przekraczającą 10MV/cm, odpowiadającą napięciu awarii > 300V.Ta wewnętrzna wytrzymałość dielektryczna zapewnia pierwszą linię ochrony przed transientami ESDW przeciwieństwie do cieńkofilmowych kondensatorów dielektrycznych (50-100 nm), które mogą cierpieć uszkodzenia ukryte w wyniku podrozpadu naprężenia ESD,300 nm tlenku zapewnia znaczną marżę między znamionowym napięciem roboczym (30V) a progem awarii dielektrycznej. Badania ESD według JESD22-A114 potwierdzają, że HBM wytrzymuje napięcie > 2 kV, klasyfikując urządzenie jako poziom klasy 2a zwykle związany z urządzeniami półprzewodnikowymi aktywnymi, a nie kondensatorami pasywnymi.
  • Jednolite rozmieszczenie pola  Brak stężenia krawędzi:W MLCC krawędzie wewnętrznych elektrod koncentrują pole elektryczne, tworząc zlokalizowane obszary, w których naprężenie dielektryczne podczas zdarzenia ESD może przekroczyć siłę rozpadu masowego.Płaszczyznowa struktura kondensatora MOS z izolatorem metalowym i półprzewodnikiem zapewnia jednolite rozkład pola elektrycznego na całym obszarze kondensatoraPodczas zdarzenia ESD ładunek jest równomiernie rozprowadzany, a nie skoncentrowany na krawędziach elektrody, zmniejszając pole szczytowe o współczynnik 5 × 10 × w porównaniu z dielektrykami MLCC o równoważnej grubości.
  • Ochrona modelu urządzenia naładowanego (CDM):Wydarzenie CDM występuje, gdy naładowany komponent szybko rozładowuje się przez jeden szpil do ziemi, zazwyczaj podczas automatycznego montażu pick-and-place.HACC101S30V200 wytrzymuje wyładowania CDM > 500 V na JESD22-C101Architektura jednowarstwowa z bezpośrednim kontaktem z ziemią z tyłu zapewnia zdefiniowaną ścieżkę rozładowania przy minimalnej impedancji pasożytniczej,zapobieganie destrukcyjnemu przesunięciu napięcia, które występuje, gdy prąd rozładowy jest zmuszony przez ścieżkę o wysokiej indukcji.

3Metalizacja i kompatybilność montażowa przy wysokiej temperaturze

  • Przymocowanie do operacji w temperaturze 200°C:Standardowy przewodzący epoksyd srebra (Epotek H20E) jest przeznaczony do ciągłej pracy przy temperaturze około 175°C. W przypadku zastosowań powyżej 175°C, lutowanie euktyczne AuSn (80Au/20Sn,(temperatura topnienia 280°C) zapewnia niezawodne przymocowanie do maty bez degradacji w temperaturze 200°CBariera Pt w tylnej metalizacji TiW-Pt-Au zapobiega tworzeniu się międzymetali Au-Sn podczas odtoku i późniejszej pracy w wysokiej temperaturze.złoto-germanium (AuGe), 356°C eutectic) lub preformy złotego krzemu (AuSi, 363°C eutectic).
  • Związanie drutu do temperatury 200°C Niezawodność:Po 1000 godzinach przechowywania w temperaturze 200°C,siła ciągnięcia pozostaje > 5gf przy trybie awarii wyprzedzania ̇ wskazująca na brak znaczącej degradacji międzymetalowej Au-AuNie zaleca się wiązania w formie klinów przy ciągłym działaniu w temperaturze 200°C ze względu na potencjalne powstawanie międzymetalicznych warstw Au-Al (fioletowa plaga) na interfejsie wiązania powyżej 150°C.

Kluczowe cechy

  • Wykonanie w ekstremalnie wysokich temperaturach:Wyznaczone do ciągłej pracy w temperaturze 200°C ∼75°C powyżej normy przemysłowej 125°C. 1000 godzin HTOL kwalifikowany w temperaturze 200°C z przesunięciem pojemności < 2% i początkowym wyciekiem < 2 ×.Bariera dyfuzyjna TiW uniemożliwia interdyfuzję Au-Si do temperatury > 250°C.
  • Wyższa tolerancja ESD:> 2 kV HBM (klasa 2 na JESD22-A114) i > 500 V CDM (na JESD22-C101).2zapewnia > 10 MV/cm wewnętrznej wytrzymałości dielektrycznej przy rozkładzie > 300 V. Jednolite rozkład pola eliminuje tryby awarii ESD koncentracji krawędzi MLCC.
  • SiO.2Stabilność dielektryczna w temperaturze:Wyciek < 500nA w temperaturze 200°C i 30V prądu stałego. +35ppm/°C TCC utrzymywany w zakresie od -55°C do +200°C. Zero starzenia żelazoelektrycznego – brak przechylenia pojemności w ciągu całej żywotności.
  • Niezawodność w trudnych warunkach:Kwalifikowane do zastosowań w otworze (wysoka temperatura, wysokie drgania), przestrzeni powietrznej (cykle próżniowe termiczne) i motoryzacji pod maską (strzał termiczny, wilgotność kondensacyjna).
  • Dostosowalna platforma:Pojemność od 10pF do 220pF. Pojemność napędowa od 6,3V do 50V. Niestandardowe geometrie chipów (przepiętrowe do 4:1 AR), nieregularne kształty i metalizacje dostępne z szybkim prototypowaniem.

Specyfikacje elektryczne (T = 25°C, chyba że jest to zaznaczone)

Parametry Wartość Warunki
Pojemność 100pF ±10% 1MHz, 1,0Vrms
Dostępne tolerancje ±10% (K), ±5% (J) /
Narysowane napięcie prądu stałego 30 V Ciągłe
Dielektryczne napięcie odporne > 100 V prądu stałego (250% nominalnego) 5 sekundy trwania, 100% badania produkcyjnego
Maksymalna temperatura pracy 200°C Ciągłe, pełne parametryczne
ESD HBM > 2 kV JESD22-A114, klasa 2
MDP ds. ESD > 500 V JESD22-C101
Własny chip ESL < 0,05nH Zdejmowane z układu
SRF (0,5 mm drutu wiązanego) > 800 MHz Jednorazowy przewód Au o długości 25 μm
Wskaźnik Q @ 1MHz >2000 Typowe
Wskaźnik Q @ 1GHz > 200 Typowe
ESR @ 1GHz <0,1Ω Typowe
Wskaźnik rozpraszania ≤ 0,15% 1 kHz, 1,0 Vrms
Prąd wycieku @ 25°C < 10nA 30 V prądu stałego
Prąd wycieku @ 200°C < 500nA 30 V prądu stałego
TCC +35 ppm/°C -55°C do +200°C
HTOL (200°C, 1000 godzin) ΔC < 2%, Iwyciek< 2× początkowe 30V prąd stały
Odporność na izolację ≥ 104MΩ Narysowane napięcie prądu stałego, 25°C
Absorpcja dielektryczna < 0,1% 1 kHz
Elektryczne SiO cieplny2, 300nm Stabilny w wysokiej temperaturze
Substrat Strefa pływania Si > 1000Ω·cm /
Wymiary chipów 00,50 × 0,50 × 0,15 mm ±0,025 mm
Metalizacja górna TiW-Au, ≥ 2,5 μm Au Stabilny do 250°C
Metalizacja z tyłu TiW-Pt-Au, ≥ 1,0 μm Au Bariera Pt, nominalna temperatura 200°C
Architektura projektowa W odniesieniu do ekspozycji na ryzyko zabezpieczenia /
Siła przyciągania wiązania drutu > 6gf w temperaturze 25°C (> 5gf po 1000 godzinach w temperaturze 200°C) Metodyka MIL-STD-883 z 2011 r.7
Temperatura pracy -55°C do +200°C Pełna parametryka
Temperatura przechowywania -65°C do +200°C /
Wrażliwość na wilgoć MSL 1 J-STD-020, nieograniczona długość życia podłogi
RoHS Zgodne z przepisami UE 2015/863, wolne od halogenów zgodnie z IEC 61249-2-21

Typowe zastosowania

  • Narzędzia do wiertniania w dolnej dziurze i drukowania drzew (150~200°C otoczenia) wymagające kondensatorów blokujących prąd stały i obwodniczych, które utrzymują stabilność parametryczną w temperaturach formowania
  • Elektronika do monitorowania i sterowania silnikami lotniczymi działająca w środowiskach niechłodzonych w przedziale silników
  • Moduły sterujące ECU i układu sterującego przekładnią w pojazdach motoryzacyjnych narażone na łączne działanie transientów ESD o wysokiej temperaturze
  • Elektryka czujników do pieców przemysłowych i sterowania procesami, działająca nieprzerwanie w temperaturze 175°C do 200°C
  • Urządzenia do monitorowania odwiertów geotermalnych z wieloletnim działaniem przy trwałej wysokiej temperaturze
  • Wytrzymała elektronika wykorzystywana w terenie wymagająca zarówno rozszerzonego zakresu temperatur, jak i wyższej twardości ESD dla sprzętu krytycznego dla misji
  • Instrumenty naukowe do eksperymentów fizycznych o wysokiej temperaturze, w których awaria ESD na poziomie komponentów nie stanowi dopuszczalnego ryzyka

Szybkie odniesienie do montażu

  • Przyłączyć:Łącznik euektyczny AuSn (300°C-320°N)2/ H2gaz tworzący) zalecany do pracy w temperaturze 200°C. AuGe (356°C) lub AuSi (363°C) dla zastosowań o wyższej temperaturze odtoku. Przewodzący epoksyd Ag (Epotek H20E) dopuszczalny do 175°C.
  • Związanie drutu:25μm Au termozonowe wiązanie kulkowe (stopień 120-150°C, siła 15-35gf, siła ciągnięcia > 6gf w temperaturze 25°C).
  • Obsługa ESD:Urządzenie o napięciu > 2 kV HBM zapewnia znaczny margines w stosunku do standardowych zagrożeń związanych z ESD na linii produkcyjnej..
  • Przechowywanie:Waffle pack lub gel-pak, podciśniona czyszczenie azotu. MSL 1 nieograniczona trwałość na podłodze. Przechowywać w temperaturze 20-25°C, 40-60% RH.

Zamówienie i konfiguracja niestandardowa

Standardowe produkty są dostarczane jako cząstki kwadratowe o wymiarach 0,50 mm × 0,50 mm w przewodzących opakowaniach gofrów.Następujące konfiguracje na zamówienie są dostępne na żądanie, przy czym minimalne ilości zamówienia zwykle zaczynają się od 10 sztuk:

  • Wartości pojemności niestandardowych w zakresie 10pF ∼ 220pF na standardowej platformie 0,50 mm
  • Geometria prostokąta do współczynnika widmowego 4: 1 lub nieregularne kształty dla niestandardowych śladów układów hybrydowych
  • Włókna węglowodaniowe niestandardowe od 6,3 V do 50 V prąd stały
  • Alternatywna metalizacja tylna: tylko Au, przeddeponowanie AuSn (35μm), AuGe lub AuSi do przyłączenia eutektycznego w wysokiej temperaturze
  • Rozszerzona kwalifikacja temperatury do 225°C dostępna na żądanie z zmodyfikowanym planem badań
  • Wyroby z tworzyw sztucznych

W celu uzyskania oceny wykonalności, szacunkowego czasu realizacji i oferty, skontaktuj się z nami, podając szczegółowe informacje.Konfiguracje niestandardowe z czterodniowym czasem realizacji prototypuRaporty kwalifikacji HTOL w temperaturze 200°C oraz dane charakterystyki ESD dla JESD22 dostępne na żądanie.